文件名称:
Spectroscopic imaging ellipsometry for characterization of nanofilm pattern on Si substrate
开发工具:
文件大小: 942kb
下载次数: 0
上传时间: 2021-02-10
详细说明：Spectroscopic imaging ellipsometry (SIE) is used to characterize a nanofilm pattern on a solid substrate. The combination of a xenon lamp, a monochromator, and collimating optics is utilized to provide a probe beam with diameter of 25 mm, a charge-coupled device (CCD) camera with an imaging lens set
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