摘要： 　　通过1:1模版，纳米图形转印技术（NIL）也许可以使光刻工程师采用更加简单的方法进行10nm以下图形的转移。尽管NIL正逐步从研究所走向工业应用，但是目前仍然处于发展初期，需要进一步证明其用于大批量生产的可能性。 　　没有人会否认随着半导体技术的发展，光刻变得越来越复杂了。过去，人们普遍认为光刻最小特征尺寸不可能小于曝光所用波长。现在的情况却完全相反。最先进的光刻设备可以用193nm准分子激光为光源生产90nm芯片。在浸入式光刻技术的帮助下，预计193nm光刻设备还可以用于65nm甚