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  1. 三甲基铝TMAL蒸气压力公式

  2. 三甲基铝TMAL 在液态时呈二聚体状态，即Al2(CH3)6，在气相时二聚体和单体互相转换。 主要用于MOCVD工艺制备AlGaAs，AlGaInP光电子器件中。 它是应用最广的铝源，三甲基铝有最高的蒸气压。

  3. 所属分类：制造

    • 发布日期：2015-09-20
    • 文件大小：62kb
    • 提供者：u012885884