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搜索资源列表

  1. 测前馈补偿在0_1um光刻机硅片台长行程电机控制中的应用

  2. 测前馈补偿在0_1um光刻机硅片台长行程电机控制中的应用

  3. 所属分类：IT管理

    • 发布日期：2012-05-18
    • 文件大小：641kb
    • 提供者：feifeikk

  1. 22nm光刻技术前景

  2. 综述了当前最为先进的22nm光刻技术，并且对总的集成电路设计流程进行了介绍！

  3. 所属分类：硬件开发

    • 发布日期：2012-05-25
    • 文件大小：296kb
    • 提供者：lujin0808

  1. L-edit 光刻版制备软件

  2. L-edit11.1版，光刻版制图软件，亲测可用

  3. 所属分类：电信

    • 发布日期：2014-10-22
    • 文件大小：28mb
    • 提供者：missingxu

  1. 光刻基本技术

  2. 在现代半导体行业中，研发中心对于光刻技术的关注是非常重要的。

  3. 所属分类：制造

    • 发布日期：2015-08-05
    • 文件大小：14mb
    • 提供者：wudd0517

  1. LG蓝光刻录机LG Electronics BH08LS20固件2.0

  2. LG蓝光刻录机LG Electronics BH08LS20固件2.0。升级后能识别更多蓝光格式，LG蓝光刻录机LG Electronics BH08LS20固件2.0

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2017-12-22
    • 文件大小：1mb
    • 提供者：area51

  1. 光刻机及行业现状

  2. 描述了光刻机及行业现状，浸润式光刻机，各种制程，ASML

  3. 所属分类：嵌入式

    • 发布日期：2018-05-16
    • 文件大小：153kb
    • 提供者：liyuming021

  1. 反向光刻系统

  2. 光刻机系统的构建，以部分相干光和分层光刻胶模型为基础，进行掩膜的最优化研究。

  3. 所属分类：硬件开发

    • 发布日期：2018-05-18
    • 文件大小：5kb
    • 提供者：qq_37939141

  1. 大面积表面等离子激元干涉光刻

  2. 大面积表面等离子激元干涉光刻，郭小伟，张志友，利用衰减全反射耦合模式激发表面等离子激元，提出一种大面积表面等离子干涉纳米光刻方法。表面等离子激元干涉可引起了电场在一定

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-02-05
    • 文件大小：369kb
    • 提供者：weixin_38733875

  1. 二维零位光栅及其在光刻对准中的应用

  2. 二维零位光栅及其在光刻对准中的应用，周成刚，叶锡标，本文介绍了二维零位光栅对准标记的原理，详细讨论了二维零位光栅副的相对间距对对准精度的影响，并给出了不同情况下使用二维零位

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-01-20
    • 文件大小：975kb
    • 提供者：weixin_38593380

  1. 基于波前分割法的接近式光刻掩膜版局部优化

  2. 基于波前分割法的接近式光刻掩膜版局部优化，潘攀，李木军，针对接近式紫外光刻图形转移中的曝光形状失真问题，采用波前分割的方法对掩模图形上的波前进行区域划分，并利用光场相干叠加相互

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-01-18
    • 文件大小：472kb
    • 提供者：weixin_38687218

  1. 半导体世界之光刻胶的分类与效果全解.zip

  2. 半导体世界之光刻胶的分类与效果全解，该资料以ppt形式详细介绍了半导体行业中关键一环光刻胶的行业情况，光刻胶的分类与实现的工艺效果。

  3. 所属分类：嵌入式

    • 发布日期：2019-12-29
    • 文件大小：1mb
    • 提供者：shouqian_com

  1. 原子光刻中的原子沉积理论模拟及可视化

  2. 原子光刻中的原子沉积理论模拟及可视化，马艳，，通过一个一维的空间模型来模拟实际为二维空间中的原子传播，有效的简化了原子在激光会聚原子沉积过程中的波动方程，并且通过软件

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2019-12-29
    • 文件大小：1021kb
    • 提供者：weixin_38601878

  1. 光刻与刻蚀工艺.ppt

  2. “光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆（或者叫硅片）上盖上事先做好的光刻板，然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射。原理就是利用紫外线使部分光刻胶变质，易于腐蚀。 “刻蚀”是光刻后，用腐蚀液将变质的那部分光刻胶腐蚀掉（正胶），晶圆表面就显出半导体器件及其连接的图形。然后用另一种腐蚀液对晶圆腐蚀，形成半导体器件及其电路。

  3. 所属分类：电信

    • 发布日期：2019-08-21
    • 文件大小：10mb
    • 提供者：ranee_

  1. 微电子光刻技术

  2. 超大规模集成电路工艺技术中的光刻技术，涵盖了光刻个方面的问题。

  3. 所属分类：教育

    • 发布日期：2013-03-08
    • 文件大小：1mb
    • 提供者：wangming056336

  1. 光刻工艺中的金属剥离技术

  2. 光刻工艺中的金属剥离技术.刻蚀工艺：利用化学或者物理方法，将抗蚀剂薄层未屏蔽的晶片表面或介质 层除去，从而在晶片表面或介质层上获得与抗蚀剂薄层图形完全一致的图形。集成电路 各功能层是立体重叠的，因而光刻工艺总是多次反复进行。

  3. 所属分类：IT管理

    • 发布日期：2011-06-16
    • 文件大小：84kb
    • 提供者：cddoullent

  1. 光刻技术工艺及应用

  2. 单的说用一定波长的波刻蚀材料就是光刻技术,集成电路制造中利用光学- 化学反应原理和化学、物理刻蚀方法

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-08-26
    • 文件大小：78kb
    • 提供者：weixin_38686245

  1. 工艺解析：CPU全制程之光刻蚀技术

  2. 光刻蚀是目前的CPU制造过程当中工艺非常复杂的一个步骤，为什么这么说呢？光刻蚀过程就是使用一定波长的光在感光层中刻出相应的刻痕，由此改变该处材料的化学特性。这项技术对于所用光的波长要求极为严格，刻蚀过程还会受到晶圆上的污点的影响。每一步刻蚀都是一个复杂而精细的过程。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-08-30
    • 文件大小：81kb
    • 提供者：weixin_38739744

  1. 光刻机传输分系统控制.doc

  2. 本文档是荷兰光刻机公司ASML的内部硅片传输分系统的控制系统设计文档，对了解光刻机内部知识以及控制系统设计有较大的帮助

  3. 所属分类：嵌入式

    • 发布日期：2020-09-17
    • 文件大小：13mb
    • 提供者：cjlusun55

  1. 光刻机ASML内部培训资料 介绍芯片的制作流程以及光刻机的部分原理

  2. 本资料包含荷兰光刻机厂商ASML的内部培训资料 ，包括介绍芯片的制作过程以及原理，光刻机的使用说明以及原理等等

  3. 所属分类：制造

    • 发布日期：2020-09-25
    • 文件大小：488mb
    • 提供者：cjlusun55

  1. AZ_PR光刻胶的数据资料

  2. AZ系列光刻胶的各类参数，中文资料

  3. 所属分类：制造

    • 发布日期：2016-03-11
    • 文件大小：3mb
    • 提供者：haididesenlin
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