光刻机重中之重，前道设备居首位。光刻机作为前道工艺七大设备之首（光刻机、刻蚀机、
镀膜设备、量测设备、清洗机、离子注入机、其他设备），价值含量极大，在制造设
备投资额中单项占比高达23%，技术要求极高，涉及精密光学、精密运动、高精度环
境控制等多项先进技术。光刻机是人类文明的智慧结晶，被誉为半导体工业皇冠上的
明珠。
冲云破雾，国产替代迎曙光。目前全球前道光刻机被ASML、尼康、佳能完全垄断
,CR3高达99%。在当前局势下，实现光刻机的国产替代势在必行，具有重大战略意义
。在02专项光刻机
