今天，互补金属氧化物半导体（CMOS）图像传感器（CIS），又称有源像素传感器（APS），是最流行的成像技术，每年生产数十亿种图像传感器，它们占成像仪市场的90%左右，几年内应该超过95%。。与电荷耦合器件（CCD）的主要替代成像技术相比，CISS具有功耗低、集成度高、速度快和集成芯片（甚至像素内部）先进CMOS功能的能力等主要优点。由于最新的技术创新，CISS目前，在图像质量和灵敏度方面与CCD的性能相匹配，甚至在数字单透镜反射、科学仪器和机器视觉等高端应用中也处于领先地位。由于这些优点，C

光频梳在精密测量中的应用.pdf,光学频率梳在过去17年间极大地促进了精密科学领域的发展。光学频率梳首先建立了微波频率与光学频率的直接联系，为时频领域的相关研究带来了突破性的进展；在此基础上，利用光学频率梳稳定的频域梳齿特性极大地推动了激光精密计量与测试技术的进步，同时光学频率梳良好的时域相干性也为实现高速、宽带的高精密分子光谱探测提供了前所未有的手段。简述了光学频率梳的产生于发展，综述了光学频率梳在激光频率测定、绝对距离测量和精密吸收光谱探测、高速非线性光谱与光谱成像及高精度时间频率传递应用

综述了国内外在纳米加工斬射线衍射光学透镜方面的研究现状和最新进展暎介绍了作者团队过去三年在这方面.做的工作暎针对衍射透镜关键技术棳研发了具有大高宽比形貌的电子束光刻基础工艺椈结合金电镀棳提出了纳米尺度波.带片的制造技术棳并将该工艺成功扩展于分辨率板棬斢旈斿旐斿旑旙旙旚斸旘棭和集成光栅型会聚透镜的研制暎运用蒙特卡罗模拟和.显影动力学棳探索了电子束光刻技术所能够实现的最大高宽比以及造成这种限制的物理根源椈成功研制了椀棸暙棻棸棸旑旐.的波带片透镜棬其中棳棻棸棸旑旐波带片高宽比为棻椂暶棻棭暍椀棸暙棾棸棸

凡是用光学原理和光学测试手段进行光学量或非光学量的信号与图像的探测与处理，均属光学测试技术的范畴。在当今科学技术高速发展的时代，卫星上天和飞船登月、半导体芯片等精密制造业以及激光制导和光电对抗武器等，都离不开光学测试技术做支撑。本文简要介绍近二三十年光学测试技术的发展概况，具体包括光学测试的发展历史与现状、光学测试理论与技术手段的继承与创新、现代光学测试的特征与发展趋势等。