光栅刻划机工作台性能及其控制算法是直接影响大面积光栅刻划精度的重要原因。为了提高光栅刻划机运行精度，研制了采用压电陶瓷进行微定位控制的300 mm行程宏微两级工作台，建立了微定位工作台数学模型，仿真分析了工作台参数对系统动态性能的影响。采用反向传播(BP)神经网络比例积分微分(PID)算法对微定位工作台进行闭环控制。仿真分析表明通过增大内外台连接刚度或内外台之间阻尼在总体趋势上均可改善与光栅质量密切相关的微定位工作台动态性能。工作台定位实验表明，在以双频激光干涉仪为纳米位移测量基准的情况下，进行