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(0120)-iOS/iPhone/iPAD/iPod源代码-标签(Label)-Masked Label
在UILabel的文字加上特殊的光罩效果。 注意:请在Mac下解压使用
所属分类:
iOS
发布日期:2012-09-24
文件大小:358kb
提供者:
wangting
LC ETH屏蔽罩
LC光网口屏蔽罩,封装图纸,有详细的尺寸
所属分类:
网络设备
发布日期:2014-03-14
文件大小:194kb
提供者:
u014095436
带遮罩的凹凸高光材质
带遮罩效果的凹凸高光` 可以让不同部位高光度不一样` 2个文件 1个shader 1个基础说明文件
所属分类:
其它
发布日期:2015-02-13
文件大小:1kb
提供者:
ranxu10
兰宝 光幕传感器 选型手册.pdf
兰宝 光幕传感器 选型手册pdf,提供“兰宝 光幕传感器 选型手册”免费资料下载,主要包括产品的技术参数、尺寸、接线、选型等内容,可供选型参考。产品命名方式 Naming Rules■ 光幕 Light curtain Lc20X-T0803DNC-E2口口口口 12345678910 11 1.分类 Type Code 6.光轴数 Axes Numbe AO接收器NPN+ NPN NO输出 L区域传感器 Area sensor 044轴4Axes088轴8Axes Receiver NPn+
所属分类:
其它
发布日期:2019-10-31
文件大小:10mb
提供者:
weixin_38743481
SJ-20120802161954-010-ZXA10 C300(V1.2.3)光接入局端汇聚设备 告警和通知信息参考.pdf
目 录 1 1 1 告 告 告 警 警 警 简 简 简 介 介 介 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
所属分类:
网络设备
发布日期:2019-06-29
文件大小:4mb
提供者:
u014770625
抛光层流罩图纸
晶圆制造过程,硅片抛光工艺需要高纯环境,本层流罩下0.1微米直径颗粒数为0个。层流电控连线简单,工作稳定,可分高、中、低三挡风速。
所属分类:
制造
发布日期:2015-09-14
文件大小:127kb
提供者:
semitool
css3悬停按钮发光遮罩动画特效
一款简单美观的css3悬停按钮发光遮罩动画特效,紫色线框按钮发光和扫光动画特效。
所属分类:
其它
发布日期:2020-06-11
文件大小:81kb
提供者:
weixin_38707342
光控自动节能LED灯电路图
光控自动节能LED灯电路图 以往的光控电路负载都是使用白炽灯,尽管是晚上使用,白天停止工作,一年下来电费也很可观。笔者制作的电路使用8只高亮度白光LED,亮度柔和,非常省电、笔者认为应该是今后发展的方向。 工作原理: 电路框图见图1,电原理图见图2。AC220V电压经C3降压,R3泄流,VD1、VD2整流,C2、C1滤波得到平滑的直流电,稳压二极管VD3把电压稳定在6V,给MC1455P1G供电,并经刚给光敏电阻供电。白天,光敏电阻RG在光照下阻值很小,MC1455P1G的②脚和
所属分类:
C
发布日期:2010-12-01
文件大小:18kb
提供者:
s534463417
LED照明中的节能环保的光控照明灯
在学校、机关、厂矿企业等单位的公共场所以及居民区的公共楼道,长明灯现象十分普遍,这造成了能源的极大浪费。另外,由于频繁开关或者人为因素,墙壁开关的损坏率很高,增大了维修量,浪费了资金。为了缓解这种情况,本文带给大家一款的节能光控类,结构简单、安装方便、可以固定在门上墙上,并且使用寿命长,安全节能,符合国家提出的节能环保理念。 一、照明灯的主要特性与应用场所 设计光控制照明灯,在夜间(黑罩模拟)有光信号时,使灯点亮延迟5秒后熄灭,间隔小于5秒,则灯持续亮,白天则不点亮。白天光线强,开关
所属分类:
其它
发布日期:2020-10-22
文件大小:155kb
提供者:
weixin_38620267
LED路灯光学系统的混合型反射罩结构设计
本文针对LED路灯的光学系统进行了混合型反射罩结构的设计,从仿真模拟得到的结果来看,基本达到了照明区域内均匀矩形配光的要求,下一步将继续开展如何提高矩形配光的边界性与照明区域的照度均匀度,并结合大功率LED光源本身的发光特性对反射罩和光源的偏转角度进行优化,从而实现所需的配光设计,或从新型的反射罩结构等角度进行研究与探索。
所属分类:
其它
发布日期:2020-10-20
文件大小:243kb
提供者:
weixin_38611459
ENTEGRIS推12英寸晶圆传送设备光罩处理器
半导体材料洁净、保护与传送方案供货商Entegris,在2006年台湾半导体设备暨材料展(SEMICON Taiwan)上发表三款先进产品,包括300mmFOSB (12英寸晶圆运输盒)、Spectra FOUP (12英寸晶圆传送盒)及RSP 200 PEEK光罩处理器。 随着300mm晶圆处理不断向全自动传输的趋势迈进,Entegris的FOSB包含了可帮助客户实现制程一致性和成本节约的技术。Entegris FOSB采用与FIMS兼容的门,使工厂能以更高效率实现全自动生产环境。
所属分类:
其它
发布日期:2020-11-26
文件大小:49kb
提供者:
weixin_38610657
PCB技术中的光印电路板使用说明
1. 准备工作: 底图: 照相的1:1制版底片(菲林),或激光、喷墨打印机1:1的PVC(不要用针打机),或绘图仪、贴图、手工画的1:1描图纸(硫酸纸)。 光源:有条件者用灯箱(内有4支日光灯),无条件者准备一支日光灯或带罩的日光灯台灯。 2. 裁切:将光印板依所需尺寸锯开(不要将保护纸揭下),并将毛刺刮掉即可使用;将剩余的板放回袋中并于冷暗处保存,保存期为一年。 3. 将保护纸揭下,露出草绿色的感光膜,将透明或半透明的底图前面放在光印板上,一起压上透明玻璃,置于20-40W日光
所属分类:
其它
发布日期:2020-11-21
文件大小:53kb
提供者:
weixin_38720756
嵌入式系统/ARM技术中的Entegris推出12英寸晶圆传送设备与光罩处理器产品
导体材料洁净、保护与传送方案供货商Entegris,台湾半导体设备暨材料展(SEMICON Taiwan)上发表三款先进产品,包括300mmFOSB (12英寸晶圆运输盒)、Spectra FOUP (12英寸晶圆传送盒)及RSP 200 PEEK光罩处理器。 随着300mm晶圆处理不断向全自动传输的趋势迈进,Entegris的FOSB包含了可帮助客户实现制程一致性和成本节约的技术。Entegris FOSB采用与FIMS兼容的门,使工厂能以更高效率实现全自动生产环境。
所属分类:
其它
发布日期:2020-11-28
文件大小:50kb
提供者:
weixin_38631282
电子测量中的光罩/光刻掩膜版检测(Retical检查)
光罩是高精密度的石英平板,是用来制作晶圆上电子电路图像,以利集成电路的制作。光罩必须是完美无缺,才能呈现完整的电路图像,否则不完整的图像会被复制到晶圆上。光罩检测机台则是结合影像扫描技术与先进的影像处理技术,捕捉图像上的缺失。 当晶圆从一个制程往下个制程进行时,图案晶圆检测系统可用来检测出晶圆上是否有瑕疵包括有微尘粒子、断线、短路、以及其它各式各样的问题。此外,对已印有电路图案的图案晶圆成品而言,则需要进行深亚微米范围之瑕疵检测。 一般来说,图案晶圆检测系统系以白光或雷射光来照射晶圆表面。再由一
所属分类:
其它
发布日期:2020-12-10
文件大小:35kb
提供者:
weixin_38721652
光罩和Reticles相关知识
现代光刻依靠的一种类似于放大照片底片的投影印刷。图2.6 是简化的曝光过程。透镜系统校准一个强UV光源,称为光罩的金属盘子会挡住光线。UV光穿过光罩中透明的部分和另外的透镜在wafer上形成图像。图2.6中的仪器叫做aligner,因为她必须保证mask的图像和已存在的wafer上的图案精确对准。 740)this.width=740" border=undefined> 图2.6 简化的用aligner光罩曝光。 作为光罩底层的透明版图必须在尺寸上很稳定,否则它投影的图案和先前其他
所属分类:
其它
发布日期:2020-12-09
文件大小:59kb
提供者:
weixin_38635979
半导体制造-光刻-微影(Photo-Lithography)
1、正负光阻 微影光蚀刻术起源于照相制版的技术。自1970年起,才大量使用于半导体制程之图形转写复制。原理即利用对紫外线敏感之聚合物,或所谓光阻(photo-resist)之受曝照与否,来定义该光阻在显影液(developer)中是否被蚀除,而最终留下与遮掩罩幕,即光罩(mask)相同或明暗互补之图形;相同者称之「正光阻」(positive resist),明暗互补者称之「负光阻」(negative resist),如图2-6所示。一般而言,正光阻,如AZ-1350、AZ-5214、FD-640
所属分类:
其它
发布日期:2020-12-09
文件大小:92kb
提供者:
weixin_38744207
半导体制造-光刻
(二)微影(Photo-Lithography)1、正负光阻 微影光蚀刻术起源于照相制版的技术。自1970年起,才大量使用于半导体制程之图形转写复制。原理即利用对紫外线敏感之聚合物,或所谓光阻(photo-resist)之受曝照与否,来定义该光阻在显影液(developer)中是否被蚀除,而最终留下与遮掩罩幕,即光罩(mask)相同或明暗互补之图形;相同者称之「正光阻」(positive resist),明暗互补者称之「负光阻」(negative resist),如图2-6所示。
所属分类:
其它
发布日期:2020-12-09
文件大小:91kb
提供者:
weixin_38640984
光罩清洗的流程以及优化
摘 要:光罩清洗的流程以及优化,需要在实际生产运用中来完善,要保证在不影响清洗能力的情况下来优化各个工艺参数,在各种工艺清洗时的时间和MASKStage的转速来缩短清洗光罩的时间,而这个参数需要在不断地实验中完善。该文针对目前液晶面板在正常生产的过程中光罩(MASK)日常清洗的流程及工艺,介绍了目前光罩清洗机中使用的几种主要的清洗工艺,清洗光罩时需根据不同原因来选择所需要的工艺来清洗,以及对清洗工艺的优化。
所属分类:
制造
发布日期:2020-12-29
文件大小:138kb
提供者:
jfkj2021
具有图像像素相关性的Alpha遮罩
Alpha遮罩旨在估计图像中的front.opacity遮罩。 在基于颜色采样的消光方法中,找到未知像素的前景色和背景色的最佳已知样本至关重要。大多数消光方法每次只能为每个像素选择颜色样本,这会阻止它们维护。图像像素中的相关性相同。 特别是,它们可能无法从复杂图像中收集适当的样本,从而导致伪像。 为了解决该问题,我们提出了一种基于相关性的采样方法,该方法将图像像素相关性用于颜色采样和最佳采样选择中,以用于图像的alpha遮罩估计。 首先,样本集的前景色和背景色可以完全覆盖未知像素的颜色,以避免丢
所属分类:
其它
发布日期:2021-03-05
文件大小:874kb
提供者:
weixin_38711778
双环透镜聚焦平行光产生局域空心光束
提出并展示了产生单个可调局域空心光束的一种新型元件。该元件由光罩与平凸透镜组成,结构简单,易于生产。该元件可调制平行光产生参数固定的局域空心光束,通过更换光罩可在较大范围内实现局域空心光束的尺寸调谐。从应用光学角度分析了新型元件的成像原理,推出了产生局域空心光束的参数公式。依据衍射积分理论推导出了元件后方的光场分布公式并用Matlab 进行数值模拟,使用He-Ne 激光作为光源,实验拍摄了局域空心光束的截面光强分布,实验结果与仿真模拟基本吻合。
所属分类:
其它
发布日期:2021-02-07
文件大小:1mb
提供者:
weixin_38581447
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