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  1. 利用限制扩散湿法刻蚀法制作GaAs微透镜

  2. 采用微透镜作为输出耦合镜,与垂直腔面发射激光器(VCSEL)的p-DBR和n-DBR构成复合腔,可以获得大功率单横模激光输出,改善光束质量。在GaAs衬底上采用限制扩散湿法刻蚀技术制作出不同直径的微透镜,研究了微透镜形成的基本原理、工艺流程,通过控制腐蚀的时间和腐蚀溶液的配比度,得到了不同曲率半径的微透镜,并且对微透镜表面形貌进行了研究。
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-23
    • 文件大小:450kb
    • 提供者:weixin_38745925