在转速控厚法的基础上,排除了射频溅射的电磁干扰,实现了自动转速控厚法.用这种方法镀制超薄多层膜时,可以实时记录下镀制每层膜的沉积时间、自动切换转速、完成设定周期后自动停止转动.自动转速控厚法与转速控厚法相比,明显降低了多层膜制备的劳动强度,提高了多层膜制备的成品率和监控精度.而且将在镀制复杂膜系多层膜时,具有更加明显的优势.