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  1. 国际主流光刻机研发的最新进展

  2. 介绍了65 nm和45 nm节点国际主流光刻机的最新研发进展，重点分析了目前提高光刻机性能的关键技术，讨论了目前各公司的主流机型及其性能参数，最后简要介绍了下一代光刻技术的研究进展。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-11
    • 文件大小：946kb
    • 提供者：weixin_38537689