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  1. 液晶显示器,CAD报告

  2. 液晶显示器设计 一、上机目的: 掌握液晶盒设计的方法;掌握点阵和8”字图案的设计方法;掌握点阵和“8”字图案的电极走线设计方法;;掌握菲林版图的设计方法。 二、上机内容: 1.液晶盒设计 1.1 LCD外形的长66mm,宽为30mm; 1.2 LCD大片长为66mm,宽为30mm; 1.3 LCD小片的长为多少66mm,宽为26mm; 1.4 LCD大片在下,小片在上; 1.5 LCD可视区长为59mm,宽为多少18mm; 1.6 可视区距小片玻璃左边缘距离3.5 mm;可视区距小片玻璃下边缘
  3. 所属分类:专业指导

    • 发布日期:2009-07-02
    • 文件大小:227kb
    • 提供者:adolanshaoye
  1. 非常漂亮的图片···看了你还会问我要·

  2. 真的很漂亮,让你心灵受到慕名的洗涤···非常适合小妹妹当左面呢···
  3. 所属分类:专业指导

    • 发布日期:2010-07-12
    • 文件大小:2kb
    • 提供者:kpo026
  1. OV7670图像传感器

  2. OV7670/OV7171 CAMERACHIP TM 图像传感器,体积小、 工作电压低,提供单片 VGA摄像头和影像处理器的所 有功能。通过 SCCB 总线控制,可以输出整帧、子采 样、取窗口等方式的各种分辨率 8位影响数据。该产 品 VGA图像最高达到 30帧/秒。用户可以完全控制图 像质量、数据格式和传输方式。所有图像处理功能过 程包括伽玛曲线、白平衡、饱和度、色度等都可以通 过 SCCB 接口编程。OmmiVision 图像传感器应用独有 的传感器技术,通过减少或消除光学或电子缺陷如固
  3. 所属分类:硬件开发

    • 发布日期:2011-04-25
    • 文件大小:594kb
    • 提供者:lkh_hetianyue
  1. IQC电子基础知识培训

  2. IQC电子基础知识培训xxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxxx 文件编号:XXXXXXXXX 编制:xxx QA规范 来料检验 版本号: A 页 码:1 本页修改序号:00 1. 目的 对本公司的进货原材料按规定进行检验和试验,确保产品的最终质量。 2. 范围 适用于本公司对原材料的入库检验。 3. 职责 检验员按检验手册对原材料进行检验与判定,并对检验结果的正确性负责。 4. 检验 4.1检验方式:抽样检验。 4.2抽样方案:元器件类:按照GB 2828-87 正常检查 一次抽样
  3. 所属分类:电子政务

    • 发布日期:2011-05-11
    • 文件大小:358kb
    • 提供者:kzz2011
  1. OV7670 中文版数据手册1.01

  2. OV7670图像传感器,体积小、工作电压低,提供单片 VGA摄像头和影像处理器的所有功能。通过 SCCB总线控制,可以输出整帧、子采样、取窗口等方式的各种分辨率 8位影响数据。该产品VGA图像最高达到30帧/秒。用户可以完全控制图像质量、数据格式和传输方式。所有图像处理功能过程包括伽玛曲线、白平衡、饱和度、色度等都可以通过 SCCB接口编程。OmmiVision图像传感器应用独有的传感器技术,通过减少或消除光学或电子缺陷如固定图案噪声、托尾、浮散等,提高图像质量,得到清晰的稳定的彩色图像。
  3. 所属分类:嵌入式

    • 发布日期:2011-05-15
    • 文件大小:595kb
    • 提供者:zxffs20
  1. 易佳工艺软件

  2. 2010/1/29 11.0.6.0 1.有手工夹条时,速度慢的问题。 元宵节快乐,你吃元宵了吗? 2010/1/29 11.0.5.0 1. 编辑表达式中,输入法不会被切换掉。 2010/1/29 11.0.4.0 1. 输入法记忆功能,在尺寸编辑器中,尺寸名称的输入法具有记忆功能。 2010/1/10 11.0.3.0 1. 夹条文字上有乱码。 2010/1/10 10.9.9.1 1. 码号之间切换速度慢的问题。 2010 新年快乐! 2009/12/30 10.9.8.4 1. 取消对
  3. 所属分类:制造

    • 发布日期:2012-04-11
    • 文件大小:3mb
    • 提供者:panyang2046
  1. flash_cs5简体中文帮助教程

  2. 第 1 章 Adobe Flash Professional CS5 的新功能 新功能. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .1 第 2 章工作
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2012-04-17
    • 文件大小:3mb
    • 提供者:lhy030320999
  1. javaEEdao有分页、增、删、改、查及图案片上传显示图片源码

  2. javaee dao实例包括分页、增删改查、上传及下载 、图片显示包括数据库在内的完整版,作为javaweb初步学习的好资料
  3. 所属分类:Web开发

    • 发布日期:2012-10-25
    • 文件大小:1mb
    • 提供者:liweifengwf
  1. 图案片轮转经典小例

  2. 例子是使用js实现图片的轮换,就像百度视频新闻首页的几条即时新闻一样,自动轮换,上述文件中包含图片轮换的具体实现(js文件)和一个html测试文件(你也可放在jsp中)
  3. 所属分类:Java

    • 发布日期:2012-11-06
    • 文件大小:1mb
    • 提供者:zh_haining
  1. 格式工厂 图案片转换 视频转换

  2. 这是一款非常不错的格式转换工厂,速度快,而且很稳定.可以转换图片,视频等.
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2012-11-30
    • 文件大小:41mb
    • 提供者:sunhaibo125
  1. 图片循环跑马灯的效果

  2. 图片循环跑马灯的效果,实现在安卓上的图案片选择效果
  3. 所属分类:Java

    • 发布日期:2014-04-02
    • 文件大小:186kb
    • 提供者:u010501326
  1. 图片放大与缩小

  2. 这款软件可以使图片无限放大还是很清晰,这样就避免了图片分辨率小看不清的状况
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2014-11-30
    • 文件大小:2mb
    • 提供者:qq_24042765
  1. 安卓手绘图片处理画板相关-D-一个关于Drawer绘图的小例子根据时间变化图案也会随之发生变化图案自动生成.rar

  2. D-一个关于Drawer绘图的小例子,根据时间变化,图案也会随之发生变化,图案自动生成.rar,太多无法一一验证是否可用,程序如果跑不起来需要自调,部分代码功能进行参考学习。
  3. 所属分类:其它

  1. 磨片

  2. 半导体晶圆的表面要规则,且没有切割损伤,并要完全平整。第一个要求来自于很小尺度的制造器件的表面和次表面层。它们的尺度在0.5到2微米之间。为了获得半导体器件相对尺寸的概念,想象图3.20的剖面和房子一样高,大概8英尺,在那个范围内,在晶圆的工作层都存在顶部一到二英寸或更小的区域。 平整度是小尺寸图案是绝对的必要条件(见11章)。先进的光刻工艺把所需的图案投影到晶圆表面,如果表面不平,投影将会扭曲就象电影图像在不平的银幕上没法聚焦一样。 平整和抛光的工艺分两步:磨片和化学机械抛光(图3.21)。磨
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-12-09
    • 文件大小:31kb
    • 提供者:weixin_38576392
  1. 一步化学气相沉积对衬底角度对MoS2垂直纳米片生长的影响

  2. 垂直排列的MoS2纳米片的生产由于其在各种研究领域中的潜在应用而引起了极大的兴趣。 然而,迄今为止所使用的这种垂直纳米片的生产方法,特别是通过化学气相沉积(CVD)途径,已经涉及到复杂或多重生长的处理步骤。 为了应对这一严峻挑战,在这项工作中,我们报告了通过CVD在单个生长步骤中生长的高质量垂直排列的MoS2纳米片,同时降低了生长Craft.io步骤的复杂性。 首次,我们还研究了生长过程中衬底角度(从0度到90度)对生长的MoS2垂直纳米片的表面形态,结构和拉曼光谱特性的影响。 结果表明,可以在
  3. 所属分类:其它

  1. 利用偶氮聚合物制作轴对称相位延迟片

  2. 在交联的偶氮聚合物材料薄膜上制作了轴对称相位延迟片。基于偶氮聚合物的光致异构特性,搭建了偏振光诱导装置。将偶氮薄膜材料放在可旋转的平台上,激发光照射在旋转台的半径方向从而在薄膜内部诱导形成轴对称分布的偶氮分子阵列。利用探测光实时检测偶氮薄膜在激发光的作用下的相位延迟量。通过编写软件,在计算机上记录下制作过程中探测光通过放置于正交偏振片组中的偶氮薄膜的光强曲线。制作完成后,通过搭建的轴对称延迟片主轴测量光路,对延迟片的轴对称性进行了测量,并用CCD记录下了测量图案。实验测得薄膜材料的双折射达到0.
  3. 所属分类:其它

  1. 基于3D分析的晶片形貌对化学机械抛光Craft.io影响的建模

  2. 本文研究了化学机械抛光(CMP)过程中由晶片表面形貌引起的去除速率变化基于三维(3D)固体-固体接触模型。 在模型中,晶片形貌的高度是二维为TG(x,y)。 一种在CMP过程中计算晶片与焊盘之间的接触压力P(x,y)的新方法是建议的。 它是由模拟结果发现,当TG(X,Y)被表示为cos的线性组合 广泛的信号可以表示为线性 当3D幅值谱和3D谱图很容易获得接触压力P(x,y) 该系统的相位谱是已知的。 晶片形貌的演变包括两个方波特征, 模拟不同的密度并将其与实验数据进行比较。 这种新方法将有助于建
  3. 所属分类:其它

  1. Wafer_map_pattern_classification_with_MFE_and_CNN:具有MFE和CNN的晶圆图图案分类-源码

  2. 晶圆图模式分类 1.数据说明 WM-811K数据集 在实际制造中从46393个批次中收集了811457个晶圆图 172950个晶圆被领域专家标记。 9种缺陷模式类别(中心,甜甜圈,边缘环,边缘局部,局部,随机,近满,划痕) 删除了四个裸片少于100个的异常晶圆图(无图案类) 2.手动特征提取方法 1]特征提取 1)密度特征 晶圆图分为13个区域(4个边缘区域,9个中心区域) 每个区域的缺陷密度用作密度特征 13个提取的特征 2)几何特征 通过噪声过滤提取显着区域 基于最大面积的显着区域
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-19
    • 文件大小:203kb
    • 提供者:weixin_42138545
  1. 利用片上超材料构建单芯片太赫兹双频吸波器

  2. 利用65 nm互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺,设计了一种新的单芯片超材料结构太赫兹吸波器,面积约为0.60 mm×0.65 mm,包含75个吸波单元.吸波单元图案采用CMOS工艺中顶层铜金属,厚度为3.2μm,设计为正八边形和正方形开口谐振环的组合结构;介质层由无掺杂硅玻璃、碳化硅、氮化硅等组成,厚度为9.02μm;介质层背面短线采用CMOS工艺中的第一层金属,厚度为0.2μm.仿真结果表明,该吸波器在0.921 THz、1.181 THz两个频率处达到最大吸收率,分别为97.84%和95
  3. 所属分类:其它

  1. u-shape3D:从表面的3D图像(尤其是细胞表面的图像)中检测形态学图案,例如气泡,丝状伪足和片状脂质体-源码

  2. u-shape3D:从表面的3D图像(尤其是细胞表面的图像)中检测形态学图案,例如气泡,丝状伪足和片状脂质体
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-03
    • 文件大小:33mb
    • 提供者:weixin_42097508
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