我们研究在13和100 TeV质子-质子对撞机上涉及弱电玻色子的双部分散射（DPS）过程。 具体来说，我们专注于三个DPS通道：W玻色子加两个射流（W⊗jj），Z玻色子加两个射流（Z⊗jj）和等号W对产生（W±⊗W±）。 我们证明Z⊗jj过程并没有引起太多关注，它是测量有效横截面σeff的最佳渠道。 在100 TeV对撞机上，三个DPS通道（尤其是W±⊗W±产量）中σeff测量的精度显着提高。 我们主张对三个DPS通道的组合分析可以测试有效横截面σeff的普遍性。