设计了一种新工艺――利用硅微结构直接作为模具来制作微小固体染料激光器谐振腔型滤波器。首先通过组合刻蚀工艺制作硅模具,再利用硅模具复制得到微谐振腔。组合刻蚀工艺是采用深层反应离子刻蚀(deep-RIE)再结合EPW湿法刻蚀(一种各向异性刻蚀技术)。由于EPW湿法刻蚀对〈110〉面刻蚀速率较慢,可制作出具有光学镜面的侧壁〈110〉的硅模具,利用此模具可复制出正方形固态染料微谐振腔。以激光染料若丹明6G掺杂的聚甲基丙烯酸甲脂(PMMA)为工作物质,在调Q Nd∶YAG自倍频激光532 nm抽运下,得到
