步进扫描光刻系统是一种混合设各，融合了扫描投影光刻机和分步重复光刻机技术，是通过使用缩小透镜扫描一个大曝光场图像到晶片上一部分实现的。这种技术在一定程度上缓解了器件特征尺寸减小而半导体晶圆物理尺寸增加的问题。一束聚焦的狭长光带同时扫过掩模版和晶片。这种光刻机的标准曝光尺寸为26 mm×33 mm。一旦扫描和图形转移过程结束，晶片就会步进到下一个曝光区域重复这个过程。使用步进扫描光刻机的优点为： 　　（1）增大了曝光场，可以获得较大的芯片尺寸； 　　（2）可以在投影掩模版上放多个图形，因而一次