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  1. ITO导电玻璃与导电膜原理与应用

  2. 93页 PDF 1. ITO及各種透明導電氧化物材料的介紹 透明導電氧化物(Transparent Conductive Oxide, TCO) 2. TCO的導電原理 3. TCO的光學性質 4. TCO薄膜之品質控制 5. TCO 薄膜之市場應用及未來發展

  3. 所属分类：专业指导

    • 发布日期：2010-03-21
    • 文件大小：7340032
    • 提供者：taurus_w

  1. Sb掺杂SnO2透明导电膜的溶胶-凝胶法制备及其性能研究

  2. Sb掺杂SnO2透明导电膜的溶胶-凝胶法制备及其性能研究，彭丽萍，徐凌，以无机金属盐氯化锡(SnCl4•5H2O)和三氯化锑(SbCl3)为原料，用溶胶-凝胶提拉法制备了掺Sb的SnO2透明导电薄膜，研究了溶胶回流时间、掺�

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-03-13
    • 文件大小：415744
    • 提供者：weixin_38710198

  1. 冷冻干燥法制备多孔导电膜的研究

  2. 冷冻干燥法制备多孔导电膜的研究，腾玉奇，杨巧文，本文以固体共轭聚3-己基噻吩（P3HT）和富勒烯派生6, 6-苯基丁酸甲酯（PCBM）为原料，以氯仿为溶剂，利用冷冻干燥法制备了具有均匀多孔

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-02-11
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38716872

  1. 高长径比纳米银线的制备及其在透明导电膜中的应用

  2. 纳米银线（作为银纳米材料的一个重要分支，因为 其耐曲挠性、透明度高、导电性和导热性好等优点成为制作柔性透明 导电材料的良好选择。迄今为止，有很多制备的方法，其中 多元醇法因其方法简单，形貌尺寸可控，适合大批量生产等原因备受 研究者的青睐，但是经典的多元醇还原法制得的存在尺寸不 均匀、纯度不高、产量低、长径比小等缺点。本论文在前人的基础上 将样品的添加方式由滴加改为一次性加入，使得操作更简便，反应更 好控制，而且适合大批量生产。采用改善后的醇还原法，成功制备了 高纯度、均勻尺寸、高长径比的，并且将

  3. 所属分类：制造

    • 发布日期：2015-10-08
    • 文件大小：6291456
    • 提供者：baidu_31840881

  1. 等厚导电膜的方块电阻R□

  2. 一块均匀厚度的导电膜通常采用方块电阻R□表示其电阻，单位为“Ω□”。本文给出方块电阻的定义等。

  3. 所属分类：制造

    • 发布日期：2013-11-09
    • 文件大小：57344
    • 提供者：zhangweiy

  1. 使用喷墨方法生产的PEDOT：PSS透明导电膜的处理方法的检验

  2. 使用印刷电子设备制造的柔性设备吸引了许多研究人员的注意力。 期望开发出具有高柔韧性和弹性的高性能透明导电膜，因为其需要创建柔性器件。 通常使用的铟锡氧化物（ITO）薄膜具有诸如弯曲应力的脆性和资源消耗之类的弱点。 这项研究的重点是导电聚合物材料聚（3,4-乙基-乙二氧基噻吩）/聚（苯乙烯磺酸盐）（PEDOT：PSS），并研究了使用喷墨法生产的透明导电膜的电阻率和透射率的提高。 本研究通过检查印刷操作之间的退火温度和极性溶剂的施加方法来改善薄膜的电学和光学特性。 结果，PEDOT：PSS薄膜的电阻

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-06-03
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38743968

  1. 从新三板转战创业板 只为扩产ITO导电膜

  2. 近日消息，在液晶显示器和触摸屏领域，基于对显示效果和传感响应的需求，ITO主导了现有液晶显示器和触摸屏的透明电极。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-07-11
    • 文件大小：150528
    • 提供者：weixin_38639872

  1. 显示/光电技术中的基于光电显示用透明导电膜及玻璃（ITO）的原理

  2. ITO导电玻璃是在钠钙基或硅硼基基片玻璃的基础上，利用磁控溅射的方法镀上一层氧化铟锡（俗称ITO）膜加工制作成的。液晶显示器专用ITO导电玻璃，还会在镀ITO层之前，镀上一层二氧化硅阻挡层，以阻止基片玻璃上的钠离子向盒内液晶里扩散。高档液晶显示器专用ITO玻璃在溅镀ITO层之前基片玻璃还要进行抛光处理，以得到更均匀的显示控制。液晶显示器专用ITO玻璃基板一般属超浮法玻璃，所有的镀膜面为玻璃的浮法锡面。因此，最终的液晶显示器都会沿浮法方向，规律的出现波纹不平整情况。 　　在溅镀ITO层时，不同的

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-11-12
    • 文件大小：104448
    • 提供者：weixin_38725623

  1. 显示/光电技术中的光电显示用透明导电膜及玻璃（ITO）的原理

  2. ITO导电玻璃是在钠钙基或硅硼基基片玻璃的基础上，利用磁控溅射的方法镀上一层氧化铟锡（俗称ITO）膜加工制作成的。液晶显示器专用ITO导电玻璃，还会在镀ITO层之前，镀上一层二氧化硅阻挡层，以阻止基片玻璃上的钠离子向盒内液晶里扩散。高档液晶显示器专用ITO玻璃在溅镀ITO层之前基片玻璃还要进行抛光处理，以得到更均匀的显示控制。液晶显示器专用ITO玻璃基板一般属超浮法玻璃，所有的镀膜面为玻璃的浮法锡面。因此，最终的液晶显示器都会沿浮法方向，规律的出现波纹不平整情况。 　　在溅镀ITO层时，不同的

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-11-18
    • 文件大小：103424
    • 提供者：weixin_38691319

  1. 元器件应用中的金属氧化膜电阻器的结构与特点

  2. 金属氧化膜电阻器也是膜式电阻器的一种，它是用锡和锑等金属盐溶液(如四氯化锡和三氯化锑盐溶液)，喷雾到炽热的陶瓷骨架表面水解沉积而形成的电阻器。金属氧化膜电阻器的导电膜均匀，膜与陶瓷骨架基体结合得牢固，有些性能优于金属膜电阻器。 　　普通金属氧化膜电阻器的外形与金属膜电阻器基本相同，其结构多为帽盖结构，轴向引线，涂绝缘漆，规格标志有直读字标或色环标志两种。 　　金属氧化膜电阻器具有以下特点: 　　①与金属膜电阻器相比，金属氧化膜电阻器有较好的抗氧化性和热稳定性。 　　②有极好的脉冲、高频过

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-11-23
    • 文件大小：39936
    • 提供者：weixin_38681719

  1. 在倾斜的铜箔上大面积且均匀地石墨烯的CVD生长，用于高性能柔性透明导电膜

  2. 在倾斜的铜箔上大面积且均匀地石墨烯的CVD生长，用于高性能柔性透明导电膜

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-03-09
    • 文件大小：724992
    • 提供者：weixin_38688352

  1. 导电膜中间具有凸起结构的表面导电电子发射极

  2. 导电膜中间具有凸起结构的表面导电电子发射极

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-03-04
    • 文件大小：339968
    • 提供者：weixin_38732924

  1. 具有AZO / AgNW / AZO夹心结构的PET基板上的柔性透明导电膜

  2. 具有AZO / AgNW / AZO夹心结构的PET基板上的柔性透明导电膜

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-03-04
    • 文件大小：803840
    • 提供者：weixin_38606870

  1. 柔性透明导电膜用银纳米线的控制合成

  2. 柔性透明导电膜用银纳米线的控制合成

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-25
    • 文件大小：992256
    • 提供者：weixin_38744694

  1. 在石英基板上制备的透明导电掺杂钨的氧化锡多晶膜

  2. 采用脉冲等离子体沉积后退火的方法，在石英基板上制备了掺钨的氧化锡透明导电膜。 钨的掺杂可以有效地提高膜的导电性，同时保持高透明度。 在不同的退火温度和钨掺杂含量下，已经研究了薄膜的结构，电学和光学性能。 X射线衍射测量（XRD）证实了在高于500℃退火的掺杂钨的氧化锡膜是多晶的并且具有四方金红石结构。 化学状态分析表明，钨原子被完全氧化为6+价。 可重现的最低电阻率为6.84 x 10（-4）ohm cm，载流子迁移率为66.4 cm（2）V-1 s（-1），载流子浓度为1.38 x 10（20

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-23
    • 文件大小：608256
    • 提供者：weixin_38563871

  1. 基于透明导电膜的重复频率电光开关的研究

  2. 透明导电膜电光开关通过合理的结构设计可以实现高效的热管理，是一种理想的高平均功率开关器件。建立了透明导电薄膜电光开关的模型，采用优化的开关设计参数分析开关的时间特性和热效应。仿真结果表明,开关上升时间达到标称时间要求；在高平均功率负荷下，晶体温升所导致的退偏损耗对开关性能的影响很小。该构型的薄膜电极电光开关可以应用于重复频率运转下的高功率激光系统。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-13
    • 文件大小：3145728
    • 提供者：weixin_38612909

  1. 透明导电薄膜的研究现状及应用

  2. 综述了当前透明导电薄膜的最新研究和应用状况.重点讨论了ITO膜的光电性能和当前的研究焦点.指出了目前需要进一步从材料选择、工艺参数制定、多层膜光学设计等方面来提高透明导电膜的综合性能,使其可见光平均透光率达到92%以上,从而满足高尖端技术的需要.

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-11
    • 文件大小：2097152
    • 提供者：weixin_38748382

  1. 直流反应磁控溅射制备掺铟ZnO透明导电薄膜的研究

  2. 本文介绍了掺铟ZnO透明导电膜的制备工艺.并应用半导体物理理论分析了薄膜的导电机理,用Drude理论建立了物理模型,分析与计算了薄膜从可见到红外光波段的光学性能,结果表明,理论计算与实测值两者符合得较好.

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-09
    • 文件大小：5242880
    • 提供者：weixin_38616033

  1. 玻璃和聚酰亚胺衬底上磁控溅射沉积的ZnO∶Al透明导电膜的结构、电学和光学性能

  2. 利用射频磁控溅射方法在玻璃和聚酰亚胺膜（PI）衬底上沉积了氧化铝质量分数为2%的掺铝氧化锌透明导电薄膜（ZnO∶Al）。系统地研究了不同衬底材料对薄膜的结构、电学以及光学性能的影响。分析表明，衬底材料对薄膜的结晶性和电学性能有较大的影响，对可见光透射率却影响不大。X射线衍射(XRD)分析得出所有的ZnO∶Al具有良好的c轴择优取向性，在可见光区(400～800 nm)两种衬底上的薄膜都达到了85%的透射率。玻璃衬底上的薄膜呈现出更强的（002）衍射峰及相对更小的半峰全宽（FWHM），薄膜电阻率达

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-09
    • 文件大小：2097152
    • 提供者：weixin_38617615

  1. 栅格式透明导电膜透光性能的表征和测试方法

  2. 建立了栅格式透明导电膜透光性能的表征参量和测试方法。利用电荷耦合器件(CCD)光电成像设备的响应特性，将响应信号转换为透光率信息；求解出不同尺度面元上的平均透光率，并建立栅格线的印制宽度、线边缘粗糙度和线上平均透光率等参量；结合三维图示技术，对透光膜进行了像素级微观透光性的三维显示。对三个柔印正方形栅格透明导电膜样品的测试结果表明：由所建立方法得到的透光率与紫外分光光度计测试结果误差小于1%；由测量的栅格线宽、透光率及像素级微观透光特性，能够分析样品的透光及印刷工艺特征。所建立方法能够起到较详尽

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-05
    • 文件大小：3145728
    • 提供者：weixin_38714532
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