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  1. 工业电子中的晶片键合质量的红外检测系统设计

  2. 晶片键合质量的红外检测系统设计 http:www.guangdongdz.com  2007-1-16   来源:半导体技术  作者:周平 廖广兰 史铁林 汤自荣 聂磊 林晓辉 1 引言 晶片直接键合技术就是把两片镜面抛光晶片经表面清洗和活化处理,在室温下直接贴合,再经过退火处理增加结合强度而成为一个整体的技术。该技术不需要任何粘合剂,两键合片的电阻率和导电类型可以自由选择,工艺简单,是制备复合材料及实现微机械加工的最优手段[1]。它往往与其他手段结合使用,既可对微结构进行
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-12-13
    • 文件大小:105kb
    • 提供者:weixin_38688352