您好,欢迎光临本网站![请登录][注册会员]  

搜索资源列表

  1. 基于MFC的简单数字图像处理程序源代码

  2. 数字图像处理的上机作业,老实说很好,现在还不是很完善,以后会上传完善后的资源,我QQ:294550446,欢迎加我好友。
  3. 所属分类:C++

    • 发布日期:2009-05-15
    • 文件大小:440kb
    • 提供者:xiangshanxue
  1. 基于绘制_检出的矢量数据栅格化方法研究

  2. 对于前人提出但未被重视的绘制
  3. 所属分类:嵌入式

    • 发布日期:2011-04-21
    • 文件大小:310kb
    • 提供者:zz07270104
  1. 反锐化掩模法在简牍文字增强中的应用.pdf

  2. 图像增强处理中反锐化掩膜算法的研究,经典算法与改进算发给。
  3. 所属分类:专业指导

    • 发布日期:2011-05-07
    • 文件大小:123kb
    • 提供者:jijiezhizhu
  1. 基于波前分割法的接近式光刻掩膜版局部优化

  2. 基于波前分割法的接近式光刻掩膜版局部优化,潘攀,李木军,针对接近式紫外光刻图形转移中的曝光形状失真问题,采用波前分割的方法对掩模图形上的波前进行区域划分,并利用光场相干叠加相互
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-01-18
    • 文件大小:472kb
    • 提供者:weixin_38687218
  1. 智能卡的基本功能结构

  2. 顾名思义,这种类型的存储器只能读取而不能写入。存储器不需要加电来保持数据,因为在芯片里数据是以“硬连线”方式形成的。   图1  ROM的基本功能结构   智能卡的ROM中存储有操作系统程序以及各种测试和诊断程序。这些程序是在芯片制造时采用掩膜法写进芯片里的。ROM掩膜根据程序代码制成,然后用光刻工艺把程序代码 。“烧”到芯片里。因为,数据只能在制造期间写进ROM,它们对同一批次的所有芯片来说都是相同的。ROM的功能结构可参看图1,具体照片在图2中。   图2   一个ROM单元的
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-11-14
    • 文件大小:167kb
    • 提供者:weixin_38694141
  1. 意法半导体推出世界第一个90nm内置闪存的安全型微控制器

  2. 意法半导体推出一个新的内置闪存的安全型微控制器(MCU),该产品是世界第一个采用90nm (90纳米)制造工艺的微控制器。ST21F384是ST成功的ST21智能卡平台内的第一款安全型微控制器,是为2.5G和3G移动通信优化的产品。新产品改用闪存做程序存储器,淘汰了以前的掩膜ROM,提高了产品制造的灵活性,缩短了从设计到制造的准备时间,同时90nm技术还提高了成本效益。   新的ST21F系列产品使卡制造商能够对飞速变化的手机市场需求做出快速的注重成本效益的反应,然后在制造工序的智能卡个性化阶
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-12-04
    • 文件大小:66kb
    • 提供者:weixin_38606656
  1. OpenCV实现平均背景法

  2. 平均背景法的基本思想是计算每个像素的平均值和标准差作为它的背景模型。 平均背景法使用四个OpenCV函数: cvAcc(),累积图像; cvAbsDiff() ,计算一定时间内的每帧图像只差; cvInRange(), 将图像分割成前景区域和背景区域; cvOr(), 将不同的彩色通道图像中合成为一个掩膜图像 代码: /* 平均背景法 */ #include "highgui.h" #include "cv.h" #include #include //为不同的临时指针图像和统
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-12-20
    • 文件大小:45kb
    • 提供者:weixin_38716556
  1. 一步掩膜法制备ZnO纳米线忆阻器

  2. 一步掩膜法制备ZnO纳米线忆阻器
  3. 所属分类:其它

  1. 基于局部梯度和复杂度的反锐化掩膜法

  2. 分析了反锐化掩膜法的增强问题,针对传统算法的噪声敏感,易在强边缘处过冲,且对灰度变化较小的微弱细节锐度不足的缺陷,提出了一种改进的基于灰度变化强度和频率的自适应图像增强算法。利用非线性形态学重构滤波器获得模糊化图像。打破了传统算法中仅依赖图像灰度变化强度定义权重函数的思想。对于图像灰度剧变区和级别丰富区,根据局部梯度和局部复杂度共同组建新的增益函数,动态调整图像边缘和微小细节部分的权值,提升细节特征的表现力。实验结果表明,该算法能更好地利用图像的相关信息,比传统算法能更有效地锐化细节,保持较高的
  3. 所属分类:其它

  1. 采用声光元件的激光标记系统

  2. 迄今为止的激光标记系统,有将YAG或CO2激光束聚焦,用多角棱镜扫描激光束的扫描法和用TEA CO2激光等直径大的光束复制金属板掩膜文字的掩膜法。但是,它们都有缺点:前者速度慢,标记时工件必须停顿下来;而后者,当字符改换时,必须改换掩膜。
  3. 所属分类:其它

  1. 基于等效膜层法的极紫外光刻含缺陷掩模多层膜仿真模型

  2. 建立了一个基于等效膜层法的极紫外光刻含缺陷掩模多层膜仿真模型。通过等效膜层法求解含缺陷多层膜无缺陷区域和含缺陷区域不同位置的反射系数,准确快速地仿真含缺陷多层膜的衍射谱。与波导法严格仿真相比,200 nm 尺寸时仿真速度提高9倍左右。与改进单平面近似模型和基于单平面近似的简化模型相比,该模型对衍射谱和空间像的仿真精度有了较大提高,并且仿真精度随缺陷尺寸和入射角的变化很小。以+1 级衍射光为例,6°入射时,与改进单平面近似模型和简化模型相比,该模型对衍射谱振幅的仿真误差分别减小了77%和63%。
  3. 所属分类:其它

  1. 极紫外光刻含缺陷掩模仿真模型及缺陷的补偿

  2. 建立了一个基于单平面近似的极紫外(EUV)光刻三维含缺陷掩模的快速仿真模型。该仿真模型中,采用相位突变和振幅衰减表示缺陷对多层膜的反射系数的影响,吸收层模型采用薄掩模修正模型。以22 nm 三维接触孔图形为例,周期为60 nm 时,该仿真模型与波导法严格仿真相比,仿真速度提高10倍以上,而关键尺寸(CD)仿真误差小于0.6 nm。基于该仿真模型,对掩模缺陷进行了补偿计算,得到了与严格仿真一致的最佳图形修正量。针对不同的缺陷形态尺寸,提出了缺陷的可补偿性的概念,并进一步讨论了二维图形的缺陷的可补偿
  3. 所属分类:其它

  1. 新型聚合物分散液晶相位光栅的制备

  2. 把具有光敏特性的预聚物与向列相液晶按一定比例混合,注入表面经过取向处理的液晶盒中。以紫外灯为光源,通过光掩膜法,使混合物在光场的引发下发生相分离,形成液晶/聚合物相位光栅。由于相分离后液晶在取向膜的作用下沿液晶盒面方向旋转180°,克服了传统液晶光栅器件对入射光偏振方向的依赖,提高了光的有效利用率。采用光学显微镜和He-Ne激光器进行测试,结果表明所制样品具有较好的栅结构,其衍射效率不受入射光偏振方向的影响且具有电场可调性。该光栅制作方法简便,驱动电压低,在光通信器件、衍射光学、投影显示、光开关
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-12
    • 文件大小:748kb
    • 提供者:weixin_38651273
  1. 只读式超分辨光盘的膜层设计和分析

  2. 超分辨技术是一种无需减小记录波长或增大数值孔径而提高存储密度的方法.Ge-Sb-Te是一种良好的相变光存储材料,在超分辨光盘中可作为掩膜.利用多层膜反射率的矩阵法计算了掩膜为Ge2Sb2Te5薄膜的超分辨只读式光盘的光学参数与各膜层厚度之间的关系,最后得到了较为理想的膜层厚度匹配.采用磁控溅射法制备了只读式超分辨光盘,测量了光盘的光学性质.
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-11
    • 文件大小:146kb
    • 提供者:weixin_38545768
  1. 包层模耦合抑制的B/Ge共掺光敏光纤

  2. 光纤光栅的包层模耦合造成的布拉格波长短波长带损耗限制了光栅的使用范围。分析了同时具有下陷内包层和光敏内包层的光敏光纤可以在相当程度上抑制包层模耦合,并采用化学汽相淀积工艺制作了硼和锗共掺(B/G3)的光纤,在其下陷内包层内也掺入了适量的硼和锗,具有一定的光敏性,经用相位掩膜法写入紫外光纤光栅证实该光敏光纤不但具有较大的光敏性,而且确实抑制了包层模耦合。
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-11
    • 文件大小:208kb
    • 提供者:weixin_38612139
  1. 超分辨近场结构中二元共晶合金掩膜的工作机制

  2. 超分辨近场结构(super-RENS)技术通过在传统光盘结构中插入掩膜结构而实现近场超分辨,是目前最具实用化前景的超高密度光存储技术之一,其中掩膜层的近场光学特性是决定其光存储性能的关键。利用三维时域有限差分法(3D-FDTD)对合金掩膜的近场光强分布进行了数值仿真和分析,提出二元共晶合金薄膜在激光作用下形成的规则微结构可能是以其作为掩膜层的超分辨近场结构光盘产生较高信噪比(SNR)的原因。
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-10
    • 文件大小:577kb
    • 提供者:weixin_38666208
  1. 棱镜耦合法确定条形波导的渐变折射率分布

  2. 提出了由棱镜波导耦合装置测量得到的条形波导有效模折射率确定其二维(2D)折射率分布的方法,其中条形波导样品是在磷酸盐玻璃基底上用离子交换方法制备的,采用不同交换时间和不同掩膜开口宽度制备出不同的折射率渐变分布条形波导。计算过程是先给定条形波导二维折射率分布的拟合函数及参数,按照Wentzel-Kramer-Brillouin(WKB)方法和有效折射率方法,由二维折射率分布的拟合函数计算出条形波导的有效模折射率,并将计算出的有效模折射率与测量值进行比较,通过调整修改折射率分布拟合函数中的参数,使有
  3. 所属分类:其它

  1. ShinyEffectForUGUI:uGUI的闪亮效果,不需要遮罩或法线贴图-源码

  2. UGUI的ShinyEffect 注意:该项目已集成到,因此我们不会继续在此存储库中进行开发。 uGUI的光泽效果,不需要遮罩或法线贴图。 由于抑制了无用的绘制调用,因此性能很好! <> 描述 ShinyEffectForUGUI在没有Mask组件的情况下将闪亮效果应用于uGUI元素(图像,RawImage,文本等)。 这将抑制额外的绘制调用并提高性能。 掩膜法 例如: ShineEffect 3 GameObject:图形+遮罩+ ShineEffect(被遮罩)
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-06
    • 文件大小:251kb
    • 提供者:weixin_42097819
  1. 激光/喷流法获得创记录的涂敷速度

  2. 国际商业机器公司瓦特森研究中心的一个小组,通过把强激光束沿电镀溶液的独立式喷嘴指向的方法,已使金膜以每秒10微米左右的速率沉积,这是迄今报导的最快沉积速率。这种技术似乎十分有希望应用于诸如微电子学制造中可能需要的金属膜无掩摸图案仿制中。
  3. 所属分类:其它

  1. 基于多核CPU的太阳自适应图像斑点重建技术

  2. 地基太阳高分辨力成像中,自适应光学系统补偿了图像中心等晕区的像差,需要斑点图像重建技术用来产生全视场衍射极限分辨率的图像。一个从Matlab程序移植而来的C语言程序被设计用于加速处理。该程序采用斑点干涉法重建图像的傅里叶振幅和斑点掩膜法重建图像的傅里叶相位。使用OpenMP进行加速,使核心间共享了部分内存资源,图像按子块进行并行计算。移植过程中程序算法上进行了必要的优化并移除了大量的冗余计算。程序使用英特尔ICC编译器编译,运行在一个12核的Linux服务器上。一张1280 pixel×1280
  3. 所属分类:其它

« 12 3 »