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  1. 无掩模表面等离子激元干涉光刻

  2. 无掩模表面等离子激元干涉光刻

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-23
    • 文件大小：210kb
    • 提供者：weixin_38727928

  1. 无掩模表面等离子激元干涉光刻

  2. 采用表面等离子激元近场增强技术可改善纳米干涉光刻成像质量, 有效实现微纳米结构快速、高效、低成本制作, 在传统微细加工技术较难发挥作用的一些纳米光子器件加工领域有很好应用前景。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-10
    • 文件大小：689kb
    • 提供者：weixin_38582909