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  1. 模拟技术中的该如何避免轨到轨CMOS放大器的不稳定性

  2. 概述   从数十年前被发明以来,MOS晶体管的尺寸已经被大大缩小。门氧化层厚度、通道长度和宽度的降低,推动了整体电路尺寸和功耗的大大减少。由于门氧化物厚度的减小,最大可容许电源电压降低,而通道长度和宽度的缩减则缩小了产品的外形并加快了其速度性能。这些改进推动了高频率CMOS轨到轨输入/输出放大器的性能发展,以满足当今系统设计者对于某种新型模拟电路日益增加的需求,这种电路必须能够以和数字电路同样低的电源电压进行工作。   本应用笔记解答了有关最新一代CMOS轨到轨放大器的一些独特问题。文章一开
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-11-12
    • 文件大小:100kb
    • 提供者:weixin_38562079