您好,欢迎光临本网站![请登录][注册会员]  

搜索资源列表

  1. GB 3797-1989 电控设备 第二部分 装有电子器件的电控设备.pdf

  2. GB 3797-1989 电控设备 第二部分 装有电子器件的电控设备pdf,GB 3797-1989 电控设备 第二部分 装有电子器件的电控设备GB379T—89 对无独立变压器而联结到公共母线上的装置,其过电压抑制装置应与前一级公共变压器相匹配 直接接人电网的装置应采取浪涌抑制措施 U 图1 图2 32.62直流输入电源 a.电压波动范围为额定值的+5%~-75%,蓄电池组供电时的电压波动范围为额定值(单个 电池的额定电压值与串联个数的乘积)的±15% b.直流电压纹波峥-谷值)不超过额定电压
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2019-10-14
    • 文件大小:891kb
    • 提供者:weixin_38743481
  1. 芯片制造污染控制关键概念及术语

  2. 浮质 可移动的离子污染物 风淋 微粒 前厅 工艺用气体 细菌 湿法工艺化学品 洁净室洁净等级 服务室 洁净室设计 温
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-12-09
    • 文件大小:24kb
    • 提供者:weixin_38699551
  1. 温度, 湿度及烟雾污染

  2. 除了控制颗粒,空气中温度,湿度和烟雾的含量也需要规定与控制。温度控制对操作员的舒适性与工艺控制是很重要的。许多利用化学溶剂来做刻蚀与清洗的工艺都在没有温度控制的设备箱内完成,只依赖于洁净室温度的控制。这种控制非常重要,因为化学反应会随温度的变化而不同,例如,每升高十摄氏度,刻蚀速率参数加二。通常的室温为72华氏度,上下幅度两度。   相对湿度也是一个非常重要的工艺参数,尤其在光刻工艺中。 在这个工艺中,要在晶片表面镀上一层聚合物作为刻蚀膜版。如果湿度过大,晶圆表面太潮湿,会影响聚合物的结合,就象
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-12-09
    • 文件大小:40kb
    • 提供者:weixin_38729607