贾 嘉（中国科学院上海技术物理研究所传感技术国家重点实验室，上海 200083）摘要：溅射技术以其在制备薄膜中的独特优点，成为获得高性能纳米材料的重要手段。本文介绍了离子束溅射和磁控溅射技术的基本原理、方法及其在制备纳米材料中的应用和优点，以国内外这方面的最新进展。文章最后对我国纳米材料今后的应用及发展前景进行了展望。 关键词：溅射法；纳米薄膜；材料制备 中图分类号：O484.1 文献标识码：A 文章编号：1003-353X(2004)07-0070-041 引言 微电子器件发展的小型化趋势引导

WO3/TiO2复合薄膜具有许多特性, 是一种优良的光电功能薄膜材料。利用先进的制膜技术获得性能优异的纳米结构WO3/TiO2复合薄膜, 对提高光电器件 的性能及应用具有重要意义。本文着重介绍了溶胶-凝胶法、水热法、电沉积法和磁控溅射法制备纳米结构WO3/TiO2复合薄膜。总结了纳米结构WO3/TiO2复合 薄膜在电致变色智能窗、光催化技术、湿度传感器上的应用。最后, 针对纳米结构WO3/TiO2复合薄膜现状提出了未来发展趋势。