以粒子光学方法为基础,利用适当步长的四阶Runge-Kutta算法模拟研究了准直铬原子束经过波长为425.55 nm,功率分别为3.93 mW和40 mW的一维高斯激光驻波场汇聚作用后所沉积的一维条纹情况。在以上两种激光功率下,沉积条纹沿ox方向的结构质量的周期性相同,而沿着oy方向的结构质量却存在很大的差异：在3.93 mW时,每一根沉积条纹在oy方向上都非常清晰,并且半高宽在[-0.5,0.5](以激光束腰半径为单位)的区域内具有较好的一致性,对比度在[-0.2,0.2]区域内有较好一致性;

利用蒙特卡罗随机思想选取轨迹初始条件，将铬原子束同位素、纵向速度分布和横向高斯发散角等因素综合考虑，对原子光刻经典粒子模型进行了优化。将优化后的模型与原模型进行了对比，同时定性分析了表面生长效应。利用新模型在不同激光功率下对沉积过程进行数值模拟，结果表明模拟结果与实验符合得很好。进一步分析了失谐对沉积的影响，当失谐选取250×2π MHz时，可得到较好的沉积结果。该模型较好地整合了沉积过程中的各个影响因素，这为正在进行的实验提供了更好的理论基础。