为了满足设计和生产多层膜系时精确确定薄膜材料光学常数的需要，建立一种基于透射率光谱包络来获取弱吸收光学薄膜光学常数的均匀模型。为消除基底背面反射对光学薄膜光谱性能测量的影响，给出一种非破坏性的薄膜光学特性校正方法，校正实测光谱数据获得光学薄膜的单面光谱，并给出确定基底光学常数的方法。研究钼舟热蒸发工艺制备的沉积在CaF2基底上的LaF3薄膜样品，并获得了刚沉积的和紫外照射处理40 min后的LaF3薄膜以及CaF2基底在160~340 nm的光学常数。结果表明，紫外照射处理可以提高LaF3薄膜的

在不同的沉积温度下，用热蒸发方法在熔融石英(JGS1)上制备了LaF3单层薄膜。分别采用分光光度计测量了薄膜样品的透射率和反射率光谱，反演得出薄膜的折射率和消光系数；采用原子力显微镜(AFM)观察了样品的表面形貌，并通过表面粗糙度计算得出总积分散射损耗；采用X射线衍射仪(XRD)测试了薄膜的晶体结构，由衍射谱图拟合得到衍射峰的半峰全宽，进而计算出薄膜晶粒的平均尺寸。实验结果表明，随着沉积温度的升高，LaF3薄膜的结晶状况明显变好，晶粒尺寸逐渐变大，膜层变得更加致密，薄膜的光学常数和折射率不均匀性