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  1. 用准分子激光使自显影光刻胶曝光

  2. 半导体工程师寻找有用的自显影光刻胶已有多年。这种光刻胶可用于半导体加工过程中很少几个阶段，可能节约生产成本。虽然已研究过几种这类材料，但它们都有一种或多种问题，诸如副产品有毒、曝光需要高强度辐照量、化学不稳定性等。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-08
    • 文件大小：645kb
    • 提供者：weixin_38659159