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  1. 用准分子激光曝光获得0.35 μm刻线宽度

  2. 东芝公司用准分子激光器和石英透镜的十分之一缩小光学系统，制成电路线宽为0.35 μm、大小为5 mm见方的图案。估计用这一技术并改进原有的曝光技术，对如工64 M DRAM (动态存储器）（电路线宽20.5 μm)。

  3. 所属分类：其它