借助于不同的色散公式，运用改进的单纯形法拟合分光光度计测得的透过率光谱曲线，来获得薄膜的光学常数和厚度。用科契公式分别对电子束蒸发的TiO2和反应磁控溅射的Si3N4，以及用德鲁特公式对电子束蒸发制备的ITO薄膜进行了测试，结果表明测得的光学常数和厚度，与已知的光学常数以及台阶仪测得的结果具有很好的一致性。这种方法不仅简便，而且不需要输入任何初始值，具有全局优化的能力，对厚度较薄的薄膜也可行。采用不同的色散公式可以获得各种不同薄膜的光学常数和厚度，这在光学薄膜、微电子和微光机电系统中具有实际的应