空间光学技术的迅猛发展对空间光学系统提出了更高的要求；碳化硅材料以其优秀的物理性质，成为广泛应用的反射镜材料；碳化硅反射镜的光学加工研究也在国内外广泛开展。简要讨论了碳化硅反射镜的抛光机理；介绍了碳化硅材料抛光的实验方法；定性分析了碳化硅材料的抛光过程；通过大量的工艺实验和理论分析，讨论磨料粒度、抛光盘材料、抛光盘压力、抛光盘转速、抛光液酸碱度等工艺参数对碳化硅反射镜表面粗糙度的影响，并对各个参数加以优化，得到了优良的实验结果。