结合干涉光刻和磁控溅射制备了一维周期性起伏的磁性多层薄膜。利用扫描探针显微镜对样品的微结构进行表征,利用椭偏仪和磁光测量系统对样品的光学性能参数和磁光克尔效应进行测试和研究。实验结果发现,磁性多层薄膜磁光性能得到极大的提升,磁光增强的克尔谱峰值与条带的宽度、中间层二氧化铪层的厚度有关;利用介质层的厚度可调制复合薄膜的磁光特性。进一步研究发现横克尔效应的增强现象。理论计算的结果证实,磁光增强源于光学腔干涉共振和磁等离激元的耦合效应。

快速循环晶化Al/BiGaDyIG双层膜的研究结果表明,由于晶粒细化及膜层间干涉增强效应,在0.1～1.3 μm膜厚范围.其平均有效法拉第角比单层膜增加了0.25°,且随循环次数增加而增大。同时,部分Al3＋离子在退火期间扩散进石榴石的八面体和四面体位,导致居里温度下降(140～161 ℃)。这些结果对提高石榴石磁光盘信噪比以及增大记录密度是极有意义的。

讨论了磁光薄膜的基本特性,并用光学薄膜的设计技术研究了磁光效应的干涉增强。作为例子,文中给出了TbFe膜的一些设计结果。