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搜索资源 - 透明n-ZnS/p金刚石薄膜异质结的制备与表征
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透明n-ZnS / p金刚石薄膜异质结的制备与表征
通过微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)方法制备了掺硼的p型金刚石薄膜。 通过使用射频(RF)磁控溅射方法首次在p型金刚石基板上沉积n型ZnS膜来制造透明的ZnS /金刚石膜异质结二极管。 检查了器件的当前电压(IV)特性,结果显示了明显的整流特性,开启电压约为1.1V。该二极管在500 nm至800 nm波长范围内的光透射率为50-70% 。
所属分类:
其它
发布日期:2021-03-17
文件大小:382kb
提供者:
weixin_38693084