极紫外光刻是实现22 nm技术节点的候选技术。极紫外光刻使用的是波长为13.5 nm的极紫外光，但在160~240 nm波段，极紫外光刻中的激光等离子体光源光谱强度、光刻胶敏感度以及多层膜的反射率均比较高，光刻胶在此波段的曝光会降低光刻系统的光刻质量。从理论和实验两方面验证了在传统Mo/Si多层膜上镀制SiC单层膜可对极紫外光刻中的带外波段进行有效抑制。通过使用X射线衍射仪、椭偏仪以及真空紫外(VUV)分光光度计来确定薄膜厚度、薄膜的光学常数以及多层膜的反射率，设计并制备了［Mo/Si］40 S

激光薄膜的制备技术是日本东洋大学教授村山洋一的一项研究成果，它用了高频离子溅射技术和新的拋光技术，前者能够镀制致密，坚硬的优质薄膜，后者能减小玻璃基板表面的粗糙度，从而大大提高薄膜的抗激光损伤能力。

利用标准光刻工艺结合钾钠离子交换技术,在玻璃基板上制备了一对间隔75 μm的平行三维单模光波导通道。然后利用射频溅射方法在一条通道的中间区段淀积一层厚度小于30 nm的梯度TiO2薄膜,形成复合光波导。基于梯度耦合理论,横电基模能够低损失地穿过TiO2薄膜覆盖区间,并在该区间产生一个高强度消逝场。因此复合光波导可作为杨氏干涉计的敏感臂而裸露通道用作参比。线偏振氦氖激光通过棱镜耦合方式被同时输入到两通道中,由另一棱镜从两通道中耦合输出的光束相互重叠而产生明暗相间的空间干涉条纹。利用可调狭缝光电探测

利用磁控溅射法在K9玻璃基底上制备了SiN/Sb80Bi20/SiN相变薄膜结构,并利用连续He-Ne激光共焦Z-扫描技术同时测量了在激光作用下透射和反射非线性光学响应。实验结果表明,相变膜在激光焦点处的反射和透射信号由于薄膜的相变表现为非线性响应特性。薄膜在焦点处的透射信号强度随着扫描激光功率的增强逐渐增大直至饱和。这是由于在激光的作用下形成了相变微区,随着扫描功率的增加,相变区域逐渐变大引起的。对不同功率激光扫描后的样品进行了低于相变阈值的重复扫描实验,结果表明,相变区域具有较高的光热稳定性

近年来,石墨烯因具有良好的柔韧性、透明度、导电性、机械强度等优点,已经逐渐成为制备柔性电子器件的重要材料。激光加工技术由于具有加工精度高、可编程、灵活直写等特点,已经在制备石墨烯薄膜柔性电子器件领域扮演着越来越重要的角色。为此,概述了激光还原氧化石墨烯的基本原理和激光调控还原氧化石墨烯的性质如氧含量、导电性、图案化、结构化及杂原子掺杂等方面的研究进展,介绍了典型的由激光还原氧化石墨烯薄膜制备的柔性电子器件,包括传感器、超级电容器、发电机等,提出了目前利用激光还原氧化石墨烯薄膜制备柔性电子器件的局