通过考虑互相关联的光学和工艺参数,设计了3～5 μm红外128×128硅衍射微透镜阵列。阵列中微透镜的孔径为100 μm,透镜F数为f/1.5,微透镜阵列的中心距为100 μm。采用多次光刻和离子束刻蚀技术在硅衬底表面制备衍射微透镜阵列。对实际的工艺过程和制备方法进行了讨论,对制备出的128×128硅衍射微透镜阵列的光学性能和表面浮雕结构进行了测量。