实验研制了针对波长248 nm KrF准分子激光的零级抑制石英相位掩模器。用双层掩蔽和图形转移技术,在双面抛光的石英基片上以CHF3/O2为反应气体,用反应离子刻蚀技术制作了具有良好完整性、周期1.085 μm的石英相位掩模器。实际测量表明其零级衍射效率被抑制到5.97%。