针对4.48 nm类镍钽软X射线激光及其应用实验, 设计制备了工作于这一波长的近正入射多层膜高反射镜。选择Cr/C为制备4.48 nm高反射多层膜的材料对, 通过优化设计, 确定了多层膜的周期、周期数以及两种材料的厚度比。模拟了多层膜非理想界面对高反射多层膜性能的影响。采用直流磁控溅射方法在超光滑硅基片上实现了200周期Cr/C多层膜高反射镜的制备。利用X射线衍射仪测量了多层膜结构, 在德国Bessy Ⅱ同步辐射上测量了在工作波长处多层膜反射率, 测量的峰值反射率达7.5％。对衍射仪测量的掠入射