李希有，周 卫，张 伟，仲 涛，刘志弘（清华大学微电子学研究所，北京 100084）摘要：采用正交试验法对二手RIE刻Al设备A-360进行工艺参数选择试验，并以均匀性、刻蚀速率、 对PR选择比为评价指标。试验中发现RF功率是影响各评价指标的最主要因素。通过进一步优化工艺，制定出了均匀性小于3%，刻蚀速率高于300nm/min，对PR选择比好于1.8的刻Al实用工艺。关键词：反应离子刻蚀；正交试验；Al刻蚀；刻蚀速率 中图分类号： TN305.2文献标识码： A 文章编号：1003-353X(2