Applied Materials日前推出了新一代缺陷识别SEM系统Applied SEMVision(TM) G4，将SEMVision系统的生产能力拓展到45nm及以下节点。该设备将在SEMICON Japan上展出。 　　SEMVision G4最大的特点在于SEM column设计以及MPSI（multi-perspective SEM imaging）的应用，在每秒一个缺陷的再检速率下，图像分辨率可达2nm。 　　Applied工艺诊断及控制事业部SEM分部总经理Ronen Ben