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  1. CISSOID - SiC助力功率半导体器件的应用结温升高,将大大改变电力系统的设计格局

  2. Yole Development 的市场调查  表明,自硅功率半导体器件诞生以来,应用的需求一直推动着结温升高,目前已达到150℃。随着第三代宽禁带半导体器件(如SiC)出现以及日趋成熟和全面商业化普及,其独特的耐高温性能正在加速推动结温从目前的150℃迈向175℃,未来将进军200℃。借助于SiC的独特高温特性和低开关损耗优势,这一结温不断提升的趋势将大大改变电力系统的设计格局。这些典型的、面向未来的高温、高功率密度应用,包括深度整合的电动汽车动力总成、多电和全电飞机乃至电动飞机、移动储能充电
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-01-21
    • 文件大小:92kb
    • 提供者:weixin_38747126