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  1. ECR plasma CVD法淀积980 nm大功率半导体激光器端面光学膜技术

  2. 介绍了电子回旋共振等离子体化学气相沉积(简称ECR plasma CVD)法淀积980 nm大功率半导体激光器两端面光学膜的工艺条件,探索了膜系监控的方法和优越性,讨论了这种淀积方法的优点和淀积的光学膜的优良特性。

  3. 所属分类：其它