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  1. FPGA的静态功耗分析与降低技术(二)

  2. FPGA已经被广泛用于实现大规模的数字电路和系统,随着CMOS工艺发展到深亚微米,芯片的静态功耗已成为关键挑战之一。文章首先对FPGA的结构和静态功耗在FPGA中的分布进行了介绍。接下来提出了晶体管的漏电流模型,并且重点对FPGA中漏电流单元亚阈值漏电流和栅漏电流进行了详细的分析。最后根据FPGA的特点采用双阈值电压晶体管,关键路径上的晶体管采用低阈值电压栅的晶体管.....
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-08-26
    • 文件大小:179kb
    • 提供者:weixin_38618315
  1. 嵌入式系统/ARM技术中的FPGA的静态功耗分析与降低技术(二)

  2. 3 FPGA结构中基本单元漏电流分析   3.1 晶体管的漏电流原理   晶体管的漏电流主要包括源漏之间的亚阈值漏电流(Isub)和栅漏电流(Igate),但随着导电沟道的缩短,也带来了其他的漏电流。图5所示为在短沟道下所有的漏电流。   I1为pn结的反偏漏电流。   I2为源漏之间的亚阈值漏电流。它是在栅压低于阈值电压Vth时,在亚阈值区域有弱的反型而形成的电流。   I3为穿过栅氧化层形成的栅电流。它是由于栅氧化层厚度越来越薄,电子穿过栅氧化层产生的电流。   I4、I
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-10-20
    • 文件大小:156kb
    • 提供者:weixin_38724370
  1. FPGA的静态功耗分析与降低技术(二)

  2. 3 FPGA结构中基本单元漏电流分析   3.1 晶体管的漏电流原理   晶体管的漏电流主要包括源漏之间的亚阈值漏电流(Isub)和栅漏电流(Igate),但随着导电沟道的缩短,也带来了其他的漏电流。图5所示为在短沟道下所有的漏电流。   I1为pn结的反偏漏电流。   I2为源漏之间的亚阈值漏电流。它是在栅压低于阈值电压Vth时,在亚阈值区域有弱的反型而形成的电流。   I3为穿过栅氧化层形成的栅电流。它是由于栅氧化层厚度越来越薄,电子穿过栅氧化层产生的电流。   I4、I
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-01-19
    • 文件大小:175kb
    • 提供者:weixin_38703866