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资源分类
搜索资源列表
北京大学体硅MEMS工艺
为了使表面牺牲层MEMS设计标准化,利用ICCAD根据进行版图设计规则的自动检查,制定出该设计规则,并在CADENCE中建立了相应的工艺库几DRC检验规则
所属分类:
专业指导
发布日期:2009-05-03
文件大小:116kb
提供者:
ease0000
关于微机电系统(MEMS)的介绍课件
微机电系统(MEMS)的分类,制造工艺,几种重要的器件等。
所属分类:
制造
发布日期:2009-05-14
文件大小:8mb
提供者:
hill_cheung
微机电系统引论(主要讲述MEMS的工艺以及一些力学知识)
中科院MEMS课件,主要讲述工艺知识以及首例分析。。。
所属分类:
专业指导
发布日期:2010-05-04
文件大小:14mb
提供者:
tanhe09
MEMS标准工艺介绍
MEMS标准工艺的详细介绍,对初学者很有帮助
所属分类:
专业指导
发布日期:2010-05-13
文件大小:1mb
提供者:
benbenlinger
RF_MEMS开关的工艺制备
微电子机械系统(MEMS)是微电子技术与机械、光学、电子等领域交叉融合的产物,是在IC工艺技术基础上的延伸与拓展,是微电子应用的新突破。RF MEMS开关是MEMS技术的一个分支, 也是二十世纪九十年代以来MEMS领域的研究热点.
所属分类:
专业指导
发布日期:2011-04-13
文件大小:348kb
提供者:
chxxtu2009
MEMS器件工艺设计
该资料为MEMS器件设计工艺的基础,详细介绍了常见MEMS器件工艺流程,具有代表性
所属分类:
专业指导
发布日期:2011-04-13
文件大小:1mb
提供者:
chxxtu2009
CMOS-MEMS Technology
MEMS工艺
所属分类:
3G/移动开发
发布日期:2012-04-07
文件大小:1mb
提供者:
smile26324
基于OpenGL的MEMS工艺几何仿真技术研究
基于OpenGL的MEMS工艺几何仿真技术研究
所属分类:
C/C++
发布日期:2012-04-25
文件大小:2mb
提供者:
yu604
MEMS陀螺仪原理与应用
MEMS传感器及其应用 MEMS陀螺仪的原理与应用优势分析 陀螺仪工作原理及工艺构造
所属分类:
专业指导
发布日期:2012-08-26
文件大小:19mb
提供者:
dzhvip
mems配套课件集
mems IC 微电子 课程学习辅导(工艺+设计)
所属分类:
专业指导
发布日期:2012-12-26
文件大小:41mb
提供者:
carreychan
微电子工艺
讲述了微电子学,如何进行光刻等过程,高科技的mems光技术。
所属分类:
硬件开发
发布日期:2013-10-23
文件大小:1mb
提供者:
mobowei
MEMS工艺
MEMS工艺
所属分类:
数据库
发布日期:2014-04-19
文件大小:9mb
提供者:
u014806041
ADI MEMS Workshop1
MEMS制造工艺介绍,ADI经典书籍,共享给大家
所属分类:
制造
发布日期:2014-05-27
文件大小:785kb
提供者:
qq_15154367
part1-fundamentalsMEMS
这是一本很好的MEMS方面的书,主要讲的是MEMS工艺。此为第一册,一共6册
所属分类:
讲义
发布日期:2014-12-15
文件大小:19mb
提供者:
qq_24543413
part2-fundamentalsMEMS
MEMS工艺方面一本很好的书,国外的,值得推荐,这个是第二部分。
所属分类:
讲义
发布日期:2014-12-15
文件大小:17mb
提供者:
qq_24543413
基于MEMS工艺的电极型免疫微传感器检测系统设计
近几年,基于电化学原理的安培酶免疫检测发展迅速,在食品工业、环境监测与处理、生物技术及临床诊断等领域都有着广泛的应用。
所属分类:
其它
发布日期:2020-07-13
文件大小:227kb
提供者:
weixin_38719564
基于MEMS工艺的亚毫米波集成喇叭天线
在亚毫米波频段,相比较于微波毫米波频段,由于频率更高、波长更短,因而相应的器件尺寸更小。而天线作为尺寸和波长大小密切相关的器件,在亚毫米波频段的设计具有很大挑战。一方面,运用新材料、新工艺加工微小尺寸并能满足亚毫米波公差要求的天线;另一方面,根据亚毫米波系统的特点,研究平面集成天线,将天线和检波器、混频器等器件运用集成天路的工艺加工集成在一起,避免分立结构带来的连接问题。
所属分类:
其它
发布日期:2020-07-13
文件大小:349kb
提供者:
weixin_38631197
基于MEMS的LED芯片封装光学特性分析
本文提出了一种基于MEMS工艺的LED芯片封装技术,可以降低器件的封裴尺寸,提高发光效率。
所属分类:
其它
发布日期:2020-10-20
文件大小:304kb
提供者:
weixin_38677255
Tanner:基于PC的IC设计工具降低MEMS设计门槛
鉴于MEMS工艺源自光刻微电子工艺,所以人们很自然会考虑用IC设计工具来创建MEMS器件的掩膜。然而,IC设计与MEMS设计之间存在着根本的区别,从版图特性、验证或仿真类型,到最重要的构造问题。
所属分类:
其它
发布日期:2020-10-26
文件大小:125kb
提供者:
weixin_38704485
基础电子中的基于PC的IC工具降低MEMS设计门槛
鉴于MEMS工艺源自光刻微电子工艺,所以人们很自然会考虑用IC设计工具来创建MEMS器件的掩膜。然而,IC设计与MEMS设计之间存在着根本的区别,从版图特性、验证或仿真类型,到最重要的构造问题。 尽管针对MEMS设计的专用工具套件已经面市,但它们的定价往往超出专注这一增长领域的许多小公司的承受范围。作为一种替代解决方案,低成本的、基于PC的IC工具开始被用于设计微机电系统及IC。 不过,这类软件的使用者必须认识到MEMS设计的特殊复杂性,并*估这些软件是否能支持他们的产品制造和生产周
所属分类:
其它
发布日期:2020-11-07
文件大小:84kb
提供者:
weixin_38663169
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