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搜索资源列表

  1. PECVD工艺课件 PECVD设备原理/工艺条件

  2. PECVD定义 PECVD 原理 PECVD的特点 PECVD种类 PECVD的镀膜作用 PECVD的钝化作用

  3. 所属分类：专业指导

    • 发布日期：2010-08-27
    • 文件大小：379kb
    • 提供者：diehards

  1. PECVD rps资料分享

  2. PECVD rps资料分享,为您介绍RPS的原理与世界先进的技术，及一些开发案例，附有部分保养升级资料

  3. 所属分类：制造

    • 发布日期：2013-03-26
    • 文件大小：5mb
    • 提供者：u010046810

  1. 表面涂层制作

  2. 本文讲述了PECVD法制备氮化硅涂层的工艺方法，可供大家参考。

  3. 所属分类：教育

    • 发布日期：2014-11-26
    • 文件大小：202kb
    • 提供者：qq_23960195

  1. 链式PECVD的操作手册

  2. 链式PECVD的操作手册，有链式PECVD的详细操作流程。

  3. 所属分类：制造

    • 发布日期：2015-09-16
    • 文件大小：3mb
    • 提供者：huayuruo529

  1. PECVD technology overview 2014

  2. Technology Overview •Advantages/Disadvantages of PECVD •LNF toolset and capabilities •Discussion –Challenges encountered –Research needs

  3. 所属分类：制造

    • 发布日期：2018-10-07
    • 文件大小：1mb
    • 提供者：qq_36068494

  1. PECVD法氮化硅薄膜生长工艺的研究

  2. PECVD法氮化硅薄膜生长工艺的研究讲述了不同工艺参数对SiN薄膜的影响

  3. 所属分类：制造

    • 发布日期：2019-01-18
    • 文件大小：687kb
    • 提供者：weixin_44568674

  1. PECVD技术晶体硅太阳电池的最新进展.pdf

  2. 2011第六届亚洲太阳能光伏工业论坛上，中科院电工研究所太阳能电池技术研究室主任王文静，《PECVD技术晶体硅太阳电池的最新进展

  3. 所属分类：其它

  1. 用脉冲PECVD涂镀柔韧碳氟化合物丝涂层.pdf

  2. 用脉冲PECVD涂镀柔韧碳氟化合物丝涂层

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2019-09-05
    • 文件大小：113kb
    • 提供者：weixin_38744207

  1. PECVD低温制备晶化硅薄膜及其机制浅析.pdf

  2. PECVD低温制备晶化硅薄膜及其机制浅析

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2019-09-05
    • 文件大小：287kb
    • 提供者：weixin_38743506

  1. 低应力PECVD氮化硅薄膜工艺探讨.pdf

  2. 低应力PECVD氮化硅薄膜工艺探讨

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2019-09-05
    • 文件大小：129kb
    • 提供者：weixin_38744207

  1. PECVD沉积参数对硅薄膜生长速率的影响

  2. PECVD沉积参数对硅薄膜生长速率的影响，王志辉，强颖怀，高效、稳定、廉价的多晶硅薄膜太阳电池有可能替代非晶硅薄膜太阳电池成为新一代无污染民用太阳能电池。传统等离子体化学汽相沉积

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-03-10
    • 文件大小：433kb
    • 提供者：weixin_38716556

  1. PECVD法制备硅基类金刚石薄膜的摩擦学性能

  2. PECVD法制备硅基类金刚石薄膜的摩擦学性能，王学东，王鹏，以N (100) 型的单晶硅片为基体，运用等离子体化学气相淀积台在单晶硅片衬底上沉积了类金刚石薄膜。用纳米压痕仪测定了薄膜的硬度，�

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-01-08
    • 文件大小：621kb
    • 提供者：weixin_38676216

  1. PECVD制备氢化非晶硅薄膜

  2. PECVD制备氢化非晶硅薄膜的氢含量研究_王祖强.pdf

  3. 所属分类：专业指导

    • 发布日期：2014-05-17
    • 文件大小：451kb
    • 提供者：u010823500

  1. PECVD在太阳能电池上的应用

  2. 很详细的一片论文，讲了PECVD的原理与定义，使用设备，工作压强等参数，应用于solarcell上薄膜制备

  3. 所属分类：制造

    • 发布日期：2012-12-06
    • 文件大小：17mb
    • 提供者：heshuhon

  1. PECVD对硅材料的钝化作用

  2. PECVD对硅材料的钝化作用 太阳能光伏资料

  3. 所属分类：专业指导

    • 发布日期：2010-08-17
    • 文件大小：143kb
    • 提供者：cjg0527

  1. VHF—PECVD系统能量馈入模式对薄膜均匀性的影响

  2. 为了解决甚高频等离子体增强化学气相沉积(VHF-PECVD)制备薄膜的非均匀性问题,采用准平面电路模型计算,给出了平板电极间电势的非均匀分布规律。在计算模型中,射频源采用面馈入的模式取代了点馈入的模式,使计算结果更贴近实际。研究表明,在60 MHz甚高频作用下,如果方形平板电极的边长超过1.3 m,电势分布非均匀度将超过10%。此外,研究还发现:如果射频源功率馈入端圆形接触面的半径从1 mm增加到22 mm,电势分布非均匀度相对降低了45%,将大大的提高薄膜的均匀性。同时,计算结果还表明:在条件

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-06-23
    • 文件大小：233kb
    • 提供者：weixin_38518722

  1. 薄膜太阳能电池PECVD的多尺度建模和操作

  2. 薄膜太阳能电池PECVD的多尺度建模和操作

  3. 所属分类：其它

  1. NH3流量对PECVD技术制备的a-Si-CN：H薄膜的微观结构和氧化性能的影响

  2. NH3流量对PECVD技术制备的a-Si-CN：H薄膜的微观结构和氧化性能的影响

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-03-02
    • 文件大小：896kb
    • 提供者：weixin_38719702

  1. PECVD法制备SiO

  2. 应用等离子体增强化学气相淀积(PECVD)法制备SiO2薄膜, 并用折射率来表征致密性。研究了SiO2薄膜致密性与射频(RF)功率、基板温度、腔内压强、N2O/SiH4流量比的关系。通过Filmetrics薄膜测厚仪F20测量了薄膜的折射率, 用聚焦离子束扫描电镜(FIB-SEM)测量了表面微结构。利用能量弥散X射线(EDX)分析薄膜中Si、O、N元素含量随工艺参数变化对致密性的影响。进行多因子实验设计(DOE), 得出了各种条件下最优的折射率与结构的生长条件, 并研究了SiO2薄膜致密性随工艺

  3. 所属分类：其它

  1. PECVD技术在微结构表面沉积薄膜的复形性

  2. 采用光刻技术、刻蚀技术和等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术，在线阵掩模微结构表面沉积了SiO2和Si3N4薄膜，研究了线阵掩模的宽度和厚度,以及薄膜的厚度和沉积速率对SiO2和Si3N4薄膜复形性的影响，制备得到了具有良好微结构形貌的微结构滤光片阵列。结果表明，薄膜沉积速率越大，薄膜的复形性越好；掩模厚度和薄膜沉积厚度的增加会导致薄膜的复形性变差；SiO2薄膜的复形性优于Si3N4薄膜的。

  3. 所属分类：其它

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