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搜索资源 - PLD生长碲化铋(Bi)的制备与表征
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PLD生长碲化铋(Bi)的制备与表征
我们报告了多支腿碲化铋(Bi2Te3)和碲化锑(Sb2Te3)热电器件的制造和表征。 使用脉冲激光沉积(PLD)将这两种材料沉积在SiO2 / Si基板的顶部。 SiO 2层用于在器件和Si晶片之间提供绝缘。 铜用作电连接器,并用作连接点。 构建了四个器件,其中Bi2Te3和Sb2Te3分别在100°C,200°C,300°C和400°C的衬底温度下沉积。 结果表明,该器件的电压灵敏度高达146μV/ K,温度灵敏度为6.8 K / mV。
所属分类:
其它
发布日期:2020-06-03
文件大小:5mb
提供者:
weixin_38663973