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  1. X射线荧光层析成像中消除散射光的方法

  2. 介绍了X射线荧光层析成像技术的成像原理及其在微量分析领域中的应用。针对X射线与物质相互作用时,不仅产生荧光,而且会产生各种散射光,为消除这些散射光对成像结果的影响,提出采用在与入射X射线垂直方向放置一个圆环状的晶体单色器,即双聚焦模式晶体单色器,使荧光与各种散射光分离,并聚焦在探测器上。这样不仅大大增强了荧光信号的强度,而且可使荧光探测器小型化。
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-11
    • 文件大小:379kb
    • 提供者:weixin_38724247