添加Y2O3对锂铝硅系统微晶玻璃工艺性能及结构的影响，郑勇，程金树，本文采用高温粘度分析、差热分析、X射线衍射、扫描电镜等测试手段，研究了稀土氧化物Y2O3对Li2O-Al2O3-SiO2系统微晶玻璃的熔制及结构的�

由单层HfO2,SiO2,Y2O3,Al2O3膜求出其折射率和消光系数色散曲线,据此计算出HfO2/SiO2,Y2O3/SiO2,Al2O3/SiO2的193 nm多层膜反射膜曲线,并用电子束热蒸发的方法进行镀制。由分光光度计测量样品的透射率和绝对反射率,求出了各种膜层的吸收曲线。结果发现HfO2/SiO2,Al2O3/SiO2反射率实验结果与理论结果吻合得很好,而Y2O3/SiO2的理论曲线偏高。通过模拟Y2O3/SiO2的反射率曲线发现Y2O3的消光系数远大于由单层膜实验得出的结果。这说明Y

采用矢量合成法设计了LiB3O5(LBO)晶体上1064 nm,532 nm二倍频增透膜,在1064 nm处的反射率为0.0014%,532 nm处的反射率为0.0004%。根据误差分析,薄膜制备时沉积速率精度控制在+6.5%时,1064 nm处的反射率增加至0.22%,532 nm处增加至0.87%。材料折射率的变化控制在+3%时,1064 nm处的反射率达0.24%,532 nm处达0.22%。沉积速率和折射率控制的负变化不增大特定波长处的剩余反射率。与膜层折射率相比,薄膜物理厚度对剩余反射

采用直升式和阶梯式加热法对电子束热蒸发镀制出的HfO2/SiO2,Y2O3/SiO2多层膜进行了400 ℃的退火处理, 发现采用阶梯式加热法退火后多层膜在190 ～300 nm范围内的峰值反射率均得到提高, 说明此种后处理方法可能会改善膜层在紫外波段的光学性能。再对HfO2,Y2O3的单层膜进行相应的退火处理, 发现退火后HfO2膜层的物理厚度减小从而发生蓝移现象; 直升式退火使Y2O3膜层的折射率变小引起蓝移, 阶梯式退火使得Y2O3膜层的物理厚度减小引起蓝移。对退火前后样品的微结构进行X射线