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搜索资源列表

  1. 新型CIGS阻挡层多横向界面Mo的特性及对器件性能的影响

  2. 新型CIGS阻挡层多横向界面Mo的特性及对器件性能的影响

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-03-15
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38737176

  1. ZnO-NA / Cu2O-NPs II型分层异质结的电化学沉积合成以增强甲基橙（MO）的光电化学降解

  2. ZnO-NA / Cu2O-NPs II型分层异质结的电化学沉积合成以增强甲基橙（MO）的光电化学降解

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-03-14
    • 文件大小：3145728
    • 提供者：weixin_38727579

  1. 具有以不同功率沉积的Mo源/漏电极的非晶InGaZnO薄膜晶体管

  2. 具有以不同功率沉积的Mo源/漏电极的非晶InGaZnO薄膜晶体管

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-03-13
    • 文件大小：680960
    • 提供者：weixin_38553648

  1. 单层MoS2中Mo，S空位和V掺杂诱导的新型光学性质

  2. 单层MoS2中Mo，S空位和V掺杂诱导的新型光学性质

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-03-10
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38611388

  1. Fe和Mo共掺杂多KongBiVO4纳米梭的带隙工程用于高效光催化水氧化

  2. 由于其预期的协同作用，半导体光催化剂中金属离子的共掺杂是提高光催化活性的一种有前途的策略。 在这项研究中，我们证明了通过简单的溶剂热方法结合随后的浸渍热处理，首次合成均匀的Fe和Mo共掺杂的BiVO4（Fe / Mo-BVO）多Kong纳米梭（PNSs）。 已经发现，Fe和Mo掺入BVO晶格中不仅影响穿梭状形态和多Kong结构，而且还改变了原始BVO的能带结构。 因此，这增强了BVO的光催化性能。 所制备的Fe / Mo-BVO PNS在可见光照射下对水氧化具有显着增强的光活性，并且平均O2释放

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-03-09
    • 文件大小：3145728
    • 提供者：weixin_38748718

  1. MO-AEOSSP-源码

  2. MO-AEOSSP MO-AEOSSP数据集 [开始时间，结束时间，持续时间，优先级] 训练台尺寸：4x100000测试台尺寸：4x30

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-03-08
    • 文件大小：19456
    • 提供者：weixin_42110533

  1. 适用于低成本和大面积应用的新型纳米制造的Mo场致发射器阵列

  2. 适用于低成本和大面积应用的新型纳米制造的Mo场致发射器阵列

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-03-08
    • 文件大小：2097152
    • 提供者：weixin_38571544

  1. Mo-W-ZrO2金属陶瓷在钢水中的腐蚀机理

  2. Mo-W-ZrO2金属陶瓷在钢水中的腐蚀机理

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-03-07
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38538264

  1. 用于Mo-W-ZrO2金属陶瓷抗氧化保护的熔融玻璃涂层

  2. 用于Mo-W-ZrO2金属陶瓷抗氧化保护的熔融玻璃涂层

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-03-07
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38738422

  1. Ski-Jumper-Perspective:谢谢。 Mamy do wyborukarieręwłasnegoskoczka（możnaużyćistniejącychkarier，zdodatkowązawartościąnp。doda

  2. 跳台滑雪 谢谢。 Mamy do wyborukarieręwłasnegoskoczka（możnaużyćistniejącychkarier，zdodatkowązawartościąnp。dodatkowąfabułą），lubpoprowadzićktórąśz reprezentacji。 别客气了。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-03-06
    • 文件大小：13312
    • 提供者：weixin_42109732

  1. dmosopt:MO-ASMO的分布式控制器，一种基于代理的多目标优化算法-源码

  2. 莫阿斯莫 这是MO-ASMO的独立版本，MO-ASMO是基于代理的多目标优化算法。 快速入门：请运行ZDT1 / ZDT1_MOASMO.py以开始您的第一次运行。 有关MO-ASMO的更多信息，请阅读该论文。 如果您在自己的研究中使用该代码，请引用它。 Gong，W.，Q. Duan，J. Li，C.Wang，Z.Di，A.Ye，C.Miao，and Y.Dai（2016），基于多目标自适应代理建模的大型参数估计优化，复杂的地球物理模型，水资源。 Res。，52（3），1984-2008。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-03-06
    • 文件大小：41984
    • 提供者：weixin_42116847

  1. 过渡族金属Mo的光学参数计算

  2. 用第一性原理方法得到了金属Mo的微观电子结构信息,并用电子结构信息精确计算了介质极化矩阵元,从而给出了Mo的介电常数虚部和光电导谱.理论结果与实验符合甚佳.

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-03-05
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38654855

  1. MO-PVA与EO-PVA有机膜片的图像光存储

  2. 用Ar+ 514 nm激光作为写入光，在有机膜片MO-PVA和EO-PVA中首次实现了汉字、英文单词及图像的实时与永久光存储，信息估计可保持一年以上。并进一步实现了图像的联想存储。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-03-05
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38692836

  1. MO-PVA与EO-PVA膜片双色光子存储

  2. 首次用MO-PVA、EO-PVA两种样品.在514 nm波长光激发下，实现了633 nm可擦除光存储，并研究了写入光束对预激发光的依赖关系，用四能级双色光子共振模型对各种实验现象进行了解释。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-03-05
    • 文件大小：1021952
    • 提供者：weixin_38719643

  1. Vuex-todo-Mo-源码

  2. Vuex-todo-Mo

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-03-04
    • 文件大小：36700160
    • 提供者：weixin_42173205

  1. Mo膜的热退火对CuInSe2层织构和器件性能的影响

  2. Mo膜的热退火对CuInSe2层织构和器件性能的影响

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-03-04
    • 文件大小：950272
    • 提供者：weixin_38688145

  1. Mo/Si软X射线多层膜中厚度均匀性的精细控制

  2. 为了获得光学性质均匀的大面积软X射线多层膜，必须控制好周期结构中单层膜的厚度均匀性。为此建立了磁控溅射薄膜沉积技术中单层膜厚度均匀性的分析和控制模型，解释了基底变速转动法可用来获得膜厚均匀的多层膜，并根据理论分析获得了基底的变速路径。将其应用于基底公转速度变速法来制备均匀性可控的大面积Mo/Si软X射线多层膜。小角X射线衍射测试结果表明，采用优化后的变速路径制备的多层膜，样品不同位置的各级次衍射峰位都能很好吻合，说明多层膜的周期厚度基本一致。计算表明该方法在直径200 mm范围内可将周期结构中M

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-25
    • 文件大小：2097152
    • 提供者：weixin_38624628

  1. 添加Mn、Mo、Ti合金元素对激光熔覆WC-FeNiCr复合涂层组织及磁性能的影响

  2. 研究了添加Mn、Mo、Ti合金元素对激光熔覆FeNiCr+60%WC 复合熔覆涂层微观组织和磁性能的影响。利用扫描电子显微镜(SEM)，能谱仪(EDS)，X 射线衍射仪(XRD)对熔覆层进行微观组织、成分及物相分析。利用振动样品磁强计(VSM)对熔覆层的磁性能进行测试。研究结果表明激光熔覆WC-FeNiCr 复合金层与基体具有良好冶金结合，表面无裂纹、气孔等缺陷。Mn、Mo、Ti合金元素的加入，使得复合涂层冶金反应及组织形貌更加复杂，Fe、Ni、Cr元素之间存在相互作用并与WC 之间存在互熔扩散

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-23
    • 文件大小：3145728
    • 提供者：weixin_38616359

  1. 极紫外光刻照明系统宽带Mo/Si 多层膜设计与制备

  2. 针对极紫外光刻照明系统中一块小尺寸反射镜大入射角带宽的需求，采用Si层有效厚度与公转速度关系式和多层膜周期厚度与公转速度关系式，完成了宽带Mo/Si多层膜设计膜系的制备工作。在磁控溅射镀膜机上制备了一系列不同周期厚度和G 值(Mo层厚度与多层膜周期厚度的比值)的Mo/Si多层膜规整膜系，并利用掠入射X 射线反射谱表征，分别得到多层膜周期厚度、Mo层有效厚度和Si层有效厚度与公转速度的关系式以及多层膜界面粗糙度。采用Levenberg-Marquardt 算法完成了宽带膜系设计，设计结果为在16.

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-23
    • 文件大小：2097152
    • 提供者：weixin_38609571

  1. jiawei-mo.github.io-源码

  2. jiawei-mo.github.io

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-21
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_42118701
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