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气压传感中空纤维反共振反射导引机构
气压传感中空纤维反共振反射导引机构
所属分类:
其它
发布日期:2021-03-11
文件大小:959488
提供者:
weixin_38568548
高空低气压低温环境下的电晕放电特性模拟试验系统
高空低气压低温环境下的电晕放电特性模拟试验系统
所属分类:
其它
发布日期:2021-03-10
文件大小:817152
提供者:
weixin_38715879
YSGG:Cr,Er激光泵浦的高气压CO
YSGG:Cr,Er激光泵浦的高气压CO
所属分类:
其它
发布日期:2021-03-05
文件大小:1048576
提供者:
weixin_38737335
lps22hb气压检测.pdf
lps22hb气压检测.pdf
所属分类:
电信
发布日期:2021-03-03
文件大小:1048576
提供者:
DX157
基于反共振机制的自校准温度光纤法布里-珀罗气压传感器
基于反共振机制的自校准温度光纤法布里-珀罗气压传感器
所属分类:
其它
发布日期:2021-03-02
文件大小:1048576
提供者:
weixin_38548231
氮气交流放电光谱强度和电压及气压的关系
利用浓度调制光谱技术, 测量了玻璃管中放电频率20 kHz时N2的介质阻挡放电光谱。实验记录了N2的C3∏u-B3∏g 357. 7nm和N+2的B2∑+u-X2∑+g 391.4 nm的跃迁谱线光谱强度随不同电压和气体压强变化规律。实验数据显示, 保持气体压强p=130 Pa不变, 在电压较低时, 光谱强度随电压增长较快, 在电压较高时, 光谱强度增长较慢; 保持放电电压U=6.4 kV不变, 光谱强度随气压增长逐渐变小。根据电子和分子碰撞激发函数和电离函数, 建立光强随放电参数变化的物理理论
所属分类:
其它
发布日期:2021-02-26
文件大小:1048576
提供者:
weixin_38672794
对激光烧蚀沉积Ag薄膜生长率和环境气压关系的理论解析
为了对激光烧蚀沉积Ag薄膜生长率和环境气压关系进行定量解释,考虑烧蚀产物在惰性气体环境中的动力学过程以及薄膜生长的沉积和二次溅射过程,并假定二次溅射几率正比于入射粒子的动能,建立了激光烧蚀沉积纳米薄膜生长的动力学模型.定量地解释了T.Scharf等人在惰性气体He,Ne,Ar,Xe环境下烧蚀沉积Ag膜的实验结果,所出现偏差乃计及大颗粒所致.
所属分类:
其它
发布日期:2021-02-25
文件大小:1048576
提供者:
weixin_38741244
环境气压对脉冲激光烧蚀沉积纳米Si薄膜表面粗糙度的影响
薄膜表面粗糙度是表征薄膜质量的重要指标,为了探求环境气压对脉冲激光烧蚀沉积纳米Si薄膜表面粗糙度的影响,采用XeCl脉冲准分子激光器,分别在惰性气体氦气和氩气的不同气压环境下烧蚀沉积了纳米Si薄膜,用Tencor Instruments Alpha-Step 200台阶仪对相应薄膜的表面粗糙度进行了测量。结果表明,薄膜表面粗糙度开始随着气压的增大而逐渐增加,在达到一最大值后便随着气压的增大而减小。由不同气体环境下的结果比较可以看出,充氩气所得Si薄膜表面粗糙度比充氦气的小,最大粗糙度强烈地依赖于
所属分类:
其它
发布日期:2021-02-12
文件大小:327680
提供者:
weixin_38677806
溅射气压对Ge
实验研究了氩气气压对溅射制备的Ge2Sb2Te5薄膜的光学常数随波长变化的影响,结果表明:随薄膜制备时氩气气压的增加,Ge2Sb2Te5薄膜的折射率n先增大后减小,而消光系数k先减小后增大。二者都随波长的变化而变化,且在长波长范围变化较大,短波长范围变化较小,解释了溅射气压对Ge2Sb2Te5薄膜的光学常数影响的机理。
所属分类:
其它
发布日期:2021-02-11
文件大小:1032192
提供者:
weixin_38599518
高气压微放电等离子体的诊断技术
论述了等离子体的常用诊断方法, 指出光谱测量法是高气压微放电等离子体诊断的最佳方法, 详细评述了吸收光谱法与发射光谱法。最后还给出了微放电等离子体参数的近似估计方法。通过这些方面的研究, 能够获得高气压微放电等离子体的详细特性, 为高气压微放电等离子体在工业上的应用提供依据。
所属分类:
其它
发布日期:2021-02-11
文件大小:709632
提供者:
weixin_38624628
基于阵列测量与数据融合的高精度硅压阻式气压变送器的研制
基于阵列测量与数据融合的高精度硅压阻式气压变送器的研制
所属分类:
其它
发布日期:2021-02-11
文件大小:1048576
提供者:
weixin_38709379
氦气压强对单脉冲过程电光开关特性影响的数值分析
根据单脉冲过程电光开关气体放电的微观物理过程,提出了氦气放电的一维数值模型。用数值方法分析了气压对单脉冲过程电光开关的气体击穿、放电电流、KDP晶体两侧电压、开关效率、开关速度、等离子区电子温度及等离子体浓度的影响。数值计算结果表明,气压主要影响开关速度的快慢,而对开关效率的大小影响作用不大。在相同开关脉冲的驱动下,在气压较低的情况下,开关速度随气压增大而变快;而在气压较高的情况下,开关速度随气压增大而变慢。由此得到口径为8cm×8cm电光开关的最佳工作气压为1~4 kPa的结论。
所属分类:
其它
发布日期:2021-02-10
文件大小:877568
提供者:
weixin_38648968
低气压对称放电热管炉和铕的双共振光电流光谱
本文叙述了一种新型的低气压对称放电热管炉,用它研究了铕原子不同气压下的双共振光电流光谱,新观察到铕元素由17341cm-1能级出发的4条新谱线,由16612cm-1能级出发的3条新谱线.实验证明这种热管炉比较适合于研究高Z金属元素的高激发态光谱.
所属分类:
其它
发布日期:2021-02-10
文件大小:985088
提供者:
weixin_38697808
输出功率不随氮比气压而变的无水冷CO
本文研究证明,无水冷高氮比气压CO2激光器在选择适当的总气压下,其输出功率几乎不随氮气浓度而变。
所属分类:
其它
发布日期:2021-02-10
文件大小:576512
提供者:
weixin_38555229
氦镉激光器的轴向气压差效应
本文在实验上发现氦镉激光器工作时存在较高的轴向气压差,阳极气压比阴极高达1至2托,约为氦工作气压的一半,为纯氦放电时的三倍。研究了气压差与激光功率输出、噪声以及稳定性的关系。用扩散回路减小气压差后,4416(?)激光输出功率由80mW增大到110mW,噪声降低到0.9%,成为大功率低噪声氦镉激光器,功率稳定性也明显提高。这时,可求得从阴极到阳极的单向流动,即Langmuir流的流量率为15cm~3/sec。对实验结果作了讨论,并认为降低气压差可使阴极溅射减小,增长激光器的寿命.
所属分类:
其它
发布日期:2021-02-09
文件大小:3145728
提供者:
weixin_38691739
环境温度和气压变化对象面位移的影响与二级光谱校正
说明利用本征色差校正二级光谱的方法,不仅可以用普通玻璃校正二级光谱,而且可以同时降低环境温度和气压变化对光学系统象面位移的影响.
所属分类:
其它
发布日期:2021-02-09
文件大小:3145728
提供者:
weixin_38739900
沉积气压对溅射氮化铝薄膜结构和光学性能的影响
采用射频反应磁控溅射系统,在K9双面抛光玻璃基底上制备氮化铝薄膜,通过实验测试并结合数值拟合计算研究了其他参数保持不变的条件下,沉积气压对其结构和光学性能的影响。薄膜的微观结构通过X射线衍射和原子力显微镜进行表征;利用光栅光谱仪测试了各薄膜样品的透射谱,在此基础上利用包络线法拟合分析得到了薄膜的折射率。结果表明,所获得的AlN薄膜样品呈晶态,其晶格属六方晶系,沉积气压增大对AlN薄膜的生长取向有一定影响。薄膜在可见光及近红外区域透明,表面平整、致密,结晶状况良好,薄膜的折射率和沉积速率均随沉积气
所属分类:
其它
发布日期:2021-02-09
文件大小:2097152
提供者:
weixin_38725086
气体纯度和气压对电子束激励氩中309 nm光谱的影响
利用相对论电子束装置激励氩气,研究了气体纯度和气压对309 nm光谱的影响.309nm谱区曾被认为来源于杂质H2O,然而改变气体纯度的实验表明,增加气体的纯度,不仅没有使309rnll的光谱强度减弱,其强度反而明显增加.这与该谱区来源于杂质相矛盾.改变气压的实验表明,309nm的光谱强度随气压变化曲线在0.08MPa处存在极大值.并且当气压在0.1~0.2MPa变化时,光谱强度的变化很小.该实验结果表明,309nm光谱不是来源于氩准分子或离子准分子的跃迁.因为准分子或离子准分子的主要形成过程是三
所属分类:
其它
发布日期:2021-02-08
文件大小:1048576
提供者:
weixin_38665193
高输出功率密度紧凑重复脉冲超高气压CO
本文描述一种工作在频率≤50赫的紧凑的超高气压CO2激光器的设计和运转。利用简单的低充电电压激励电路,在5个大气压频率25赫上巳获得300兆瓦升
所属分类:
其它
发布日期:2021-02-08
文件大小:1048576
提供者:
weixin_38547421
高气压激光器的发展
横向电激励高气压CO2激光器的研制成功是高功率激光器的重大进展,近年来发展很快。它是大能量、高功率固体激光器的重要竞争者。
所属分类:
其它
发布日期:2021-02-08
文件大小:7340032
提供者:
weixin_38698149
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