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上传时间: 2021-03-05
详细说明：提出酶蚀卤化银明胶制作连续深浮雕微结构的新方法。给出了卤化银明胶酶蚀成像原理和深刻蚀过程机理的理论分析。求得存在吸收时，刻蚀深度与曝光量关系的解析式。表明胶膜对光的吸收是造成其非线性关系的主要原因，并提出了解决方案和优化工艺参数，通过实验得到在刻蚀深度为4 μm范围内有良好的线性关系，最后成功制作了良好面形的微柱透镜列阵。
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