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上传时间: 2021-03-03
详细说明：我们介绍了基于多模干涉（MM1）的高效硅波导交叉的设计，制造和表征。 通过绝缘体上硅（SOI）平台上的光栅耦合器仅一步蚀刻就可以形成交叉。 通过3D FDTD仿真可以预测出98.5％的高传输效率（-0.07 dB的损耗）和低串扰（<-43 dB）。 我们的实验结果表明，该仿真与仿真具有良好的一致性，并且在1520 nm至1580 nm的宽光谱范围内，每次穿越时的损耗为-0.1 dB，串扰优于40 dB。 这种低损耗，低串扰的波导交叉点适用于未来的片上光学互连。
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