文件名称:
功率对射频磁控溅射生长ZnO薄膜性能的影响
开发工具:
文件大小: 640kb
下载次数: 0
上传时间: 2021-02-24
详细说明：通过使用不同溅射功率的射频（RF）磁控溅射技术，在石英衬底上生长了氧化锌（ZnO）薄膜，该技术将其功率从10 W调整到200W。发现溅射功率起着重要的作用。在电影的成长过程中。 检查了结晶度，吸收和光致发光（PL）的特征。 此外，还通过使用原子力显微镜（AFM）观察了膜的表面形态。 在生长过程中增加功率后，以150 W的RF功率沉积的薄膜显示出最佳的晶体质量和光学性能。 150 W的拐点是可检测的。 据估计，这种趋势是由于由增大功率引起的从ZnO靶溅射出的颗粒的增强而引起的。 这些结果表明，溅射技术具有最佳的功率工作范围。 对此的物理机制已通过简单的定性模型和动力学方程式进行了解释。 由Elsevier BV发布
(系统自动生成,下载前可以参看下载内容)
下载文件列表
相关说明
- 本站资源为会员上传分享交流与学习,如有侵犯您的权益,请联系我们删除.
- 本站是交换下载平台，提供交流渠道，下载内容来自于网络，除下载问题外，其它问题请自行百度。
- 本站已设置防盗链，请勿用迅雷、QQ旋风等多线程下载软件下载资源，下载后用WinRAR最新版进行解压.
- 如果您发现内容无法下载，请稍后再次尝试；或者到消费记录里找到下载记录反馈给我们.
- 下载后发现下载的内容跟说明不相乎，请到消费记录里找到下载记录反馈给我们，经确认后退回积分.
- 如下载前有疑问，可以通过点击"提供者"的名字，查看对方的联系方式，联系对方咨询.
