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射频磁溅射沉积Eu掺杂ZnO薄膜中的铁磁性
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文件大小: 112kb
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上传时间: 2021-02-22
详细说明：本文报道了通过射频磁溅射成功将（掺杂的ZnO薄膜成功沉积在硅（100）上。 X射线衍射图表明，Eu替代了晶格中的Zn。 通过使用超导量子干涉装置在10 K和室温下获得铁磁环。 在零场冷却曲线和场冷却曲线中均未发现不连续的变化。 Eu掺杂的ZnO中观察到的铁磁性可归因于单个磁相。 通过在溅射气体中引入5％的氧气或在O（2）中进行后退火制备的Eu掺杂ZnO的饱和磁化强度显着降低，这表明缺陷在Eu掺杂ZnO的铁磁性发展中起关键作用电影。
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