文件名称:
激光诱导硅表面化学反应形成Ni-SiO
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上传时间: 2021-02-13
详细说明：本文报道用激光诱导表面化学反应沉积金属膜的一种新实验结果。用OWCO02激光诱导硅片表面的Ni2O3与硅片衬底反应沉积镍膜,一步形成Ni-SiO2-Si的准MOS结构。用多种表面分析方法对膜层的成份,性能进行测试分析,并讨论了膜的生长机制。
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